電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）芯片，一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 了全球 EUV 光刻設(shè)備市場(chǎng)，成為各國(guó)晶圓廠邁向 7nm、5nm 乃至更先進(jìn)制程繞不開的 “守門人”。然而，近日俄羅斯科學(xué)院微結(jié)構(gòu)物理研究所公布的一份國(guó)產(chǎn) EUV 光刻設(shè)備長(zhǎng)期路線圖，引發(fā)了業(yè)界的廣泛關(guān)注與討論 —— 俄羅斯，正在試圖挑戰(zhàn) ASML 的霸權(quán)。 ?
2025-10-04 03:18:009690 
7月16日，全球三大光刻巨頭之一的日本尼康公司宣布，正式推出全球首款專為半導(dǎo)體后道工藝設(shè)計(jì)的無(wú)掩模光刻系統(tǒng)——DSP-100，這款設(shè)備為先進(jìn)封裝量身定制，可以容納600mm大基板，并提供1.0μm
2025-07-24 09:29:397818 
新的方向。 ? SK 海力士 ? SK海力士在CES展上展示了公司在推動(dòng)人工智能時(shí)代進(jìn)步方面所推出的變革性存儲(chǔ)器產(chǎn)品。包括SK海力士的HBM、服務(wù)器DRAM、eSSD、CXL及PIM產(chǎn)品。 ? 作為領(lǐng)先的HBM供應(yīng)商，SK海力士公開了16層HBM3E樣品。這是全球容量最大的HBM產(chǎn)品，48GB 1
2025-01-13 09:11:133033 
M24SR16 - Y：多功能動(dòng)態(tài)NFC/RFID標(biāo)簽IC的全面解析 在電子設(shè)備互聯(lián)互通的今天，NFC/RFID技術(shù)的應(yīng)用愈發(fā)廣泛。M24SR16 - Y作為一款動(dòng)態(tài)NFC/RFID標(biāo)簽IC，憑借其
2026-01-05 16:50:0526 KSZ8841-16M/-32M：?jiǎn)味丝谝蕴W(wǎng)MAC控制器的卓越之選 在當(dāng)今數(shù)字化飛速發(fā)展的時(shí)代，以太網(wǎng)技術(shù)在各類電子設(shè)備中扮演著至關(guān)重要的角色。KSZ8841-16M/-32M這一單端口以太網(wǎng)
2025-12-29 15:15:0888 英偉達(dá)、SK海力士與群聯(lián)電子共同開發(fā)AI固態(tài)硬盤 ? 日前，據(jù)報(bào)道，英偉達(dá)與韓國(guó)SK海力士共同開發(fā)新型人工智能固態(tài)硬盤，群聯(lián)電子也參與開發(fā)。這款A(yù)I專用固態(tài)硬盤的效能預(yù)計(jì)將達(dá)到當(dāng)前AI服務(wù)器所用
2025-12-24 10:39:13942 缺貨先說說為什么會(huì)出現(xiàn)這種局面。三星和SK海力士從2024年底就開始減產(chǎn)NAND閃存,幅度還不小。SK海力士2025年NAND晶圓出貨量從2024年的201萬(wàn)顆降
2025-12-16 14:34:16435 
Amphenol signalmate? C091 M16 Q Quicklock連接器：戶外應(yīng)用的理想之選 在電子設(shè)備的設(shè)計(jì)中，連接器的選擇至關(guān)重要。一個(gè)合適的連接器不僅能夠保證設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行
2025-12-12 14:35:07274 ? 在電子設(shè)備不斷發(fā)展的今天，NFC/RFID技術(shù)在眾多領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。M24SR16 - Y作為一款動(dòng)態(tài)NFC/RFID標(biāo)簽IC，具有獨(dú)特的特性和廣泛的應(yīng)用前景。本文將對(duì)M24SR16 - Y
2025-11-30 17:43:531140 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，據(jù)韓媒報(bào)道，存儲(chǔ)行業(yè)巨頭SK海力士正全力攻克一項(xiàng)全新的性能瓶頸技術(shù)高帶寬存儲(chǔ)HBS。 ? SK海力士研發(fā)的這項(xiàng)HBS技術(shù)采用了創(chuàng)新的芯片堆疊方案。根據(jù)規(guī)劃，該技術(shù)將通過一種名為
2025-11-14 09:11:212446 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，韓國(guó)首爾舉行的“SK AI Summit 2025”峰會(huì)上，SK海力士CEO郭魯正（Kwak Noh-Jung）正式宣布了公司向 “全線AI存儲(chǔ)創(chuàng)造者”（Full
2025-11-08 10:49:083183 EUV（極紫外）光刻技術(shù)憑借 13.5nm 的短波長(zhǎng)，成為 7nm 及以下節(jié)點(diǎn)集成電路制造的核心工藝，其光刻后形成的三維圖形（如鰭片、柵極、接觸孔等）尺寸通常在 5-50nm 范圍，高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09592 method”為題發(fā)表在Optics Express上。 全息光刻相比于主流的投影式光刻，不需要復(fù)雜的投影物鏡系統(tǒng)，設(shè)備成本更低，比傳統(tǒng)接近式光刻的分辨率更高，并且對(duì)掩模缺陷不敏感
2025-09-19 09:19:56443 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，SK海力士宣布，已正式向客戶供應(yīng)其全球率先實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)的移動(dòng)端NAND閃存解決方案產(chǎn)品ZUFS 4.1。 ? SK海力士通過與客戶的密切合作，于今年6月成功完成了該產(chǎn)品的客戶驗(yàn)證
2025-09-19 09:00:003507 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文 / 吳子鵬）近日，SK 海力士宣布全球率先完成第六代高帶寬存儲(chǔ)器（HBM4）的開發(fā)，并同步進(jìn)入量產(chǎn)階段，成為首家向英偉達(dá)等核心客戶交付 HBM4 的存儲(chǔ)廠商。 ? 據(jù)悉，SK
2025-09-17 09:29:085963 在人工智能（AI）技術(shù)迅猛發(fā)展的當(dāng)下，數(shù)據(jù)處理與存儲(chǔ)能力成為制約其進(jìn)一步飛躍的關(guān)鍵因素。2025 年 9 月 12 日，韓國(guó)半導(dǎo)體巨頭 SK 海力士宣布，已成功完成面向 AI 的超高性能存儲(chǔ)器新產(chǎn)品
2025-09-16 17:31:141363 加工技術(shù)，。光刻機(jī)是光刻技術(shù)的核心設(shè)備，它的性能直接決定了芯片制造的良率和成本。
光刻技術(shù)的基本原理是利用光的照射將圖形轉(zhuǎn)移到光致抗?jié)釀┍∧ど稀?光刻技術(shù)的關(guān)鍵指標(biāo)的分辨率。
光刻技術(shù)的難點(diǎn)在于需要
2025-09-15 14:50:58
當(dāng)?shù)貢r(shí)間 8 月 29 日，根據(jù)美國(guó)《聯(lián)邦公報(bào)》發(fā)布的通知顯示，美國(guó)商務(wù)部工業(yè)與安全局（BIS）修訂《出口管理?xiàng)l例》（EAR），將英特爾半導(dǎo)體（大連）有限公司（已被 SK 海力士收購(gòu)，按原計(jì)劃今年
2025-09-02 17:40:11655 據(jù)央視報(bào)道；在8月29日，美國(guó)商務(wù)部撤銷英特爾半導(dǎo)體（大連）、三星中國(guó)半導(dǎo)體及SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）的經(jīng)驗(yàn)證最終用戶授權(quán)。中方商務(wù)部回應(yīng)稱美方此舉系出于一己之私；美方將出口管制工具化，將對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定產(chǎn)生重要不利影響，中方對(duì)此表示反對(duì)。 ?
2025-08-31 20:44:16825 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 隨著集成電路工藝的不斷突破， 當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)持續(xù)向7nm及以下邁進(jìn)，傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已難以滿足高精度、高密度的制造需求，此時(shí)，波長(zhǎng)13.5nm的極紫外（EUV）光刻技術(shù)逐漸成為支撐
2025-08-17 00:03:004219 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
Sandisk閃迪公司（NASDAQ：SNDK）正式宣布與SK海力士簽署具有里程碑意義的諒解備忘錄（Memorandum of Understanding，MOU），雙方將攜手制定高帶寬閃存
2025-08-08 13:37:381847 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，SK海力士截至2025年6月30日的2025財(cái)年第二季度財(cái)務(wù)報(bào)告顯示，公司2025財(cái)年第二季度營(yíng)業(yè)收入為22.232萬(wàn)億韓元，營(yíng)業(yè)利潤(rùn)為9.2129萬(wàn)億韓元，凈利潤(rùn)為
2025-08-07 09:30:066211 總建筑面積為67518平方米，總投資額約500億日元，投產(chǎn)后佳能的光刻設(shè)備產(chǎn)能將較2021年翻倍。該工廠將于今年9月啟動(dòng)最初生產(chǎn)，明后年補(bǔ)充鏡頭加工制造能力。 ? 佳能宇都宮工廠不制造EUV、ArF等較為先進(jìn)的光刻設(shè)備，而是聚焦i線、KrF等成熟光源
2025-08-05 10:23:382173 與成熟制程市場(chǎng)提供更多設(shè)備產(chǎn)能支持。 據(jù)介紹，這座新工廠是佳能在 2023 年開始動(dòng)工建設(shè)的，并可能使用自家開發(fā)的 Nanoimprint (納米壓印) 技術(shù)，總投資額超過 500 億日元，涵蓋廠房與先進(jìn)制造設(shè)備。新廠面積達(dá) 6.75 萬(wàn)平方公尺，投產(chǎn)后將使光刻設(shè)備總產(chǎn)能提
2025-08-04 17:39:28712 近日，SK集團(tuán)旗下在錫三家ICT企業(yè)，SK海力士半導(dǎo)體（中國(guó)）有限公司，英普賽信息技術(shù)（無(wú)錫）有限公司，愛思開希恩希系統(tǒng)（北京）有限公司在旺莊街道建發(fā)社區(qū)籌建組社區(qū)黨群服務(wù)中心舉行SK海力士幸福未來(lái)教育成長(zhǎng)中心2號(hào)店啟動(dòng)儀式。
2025-07-24 11:38:17838 激光（IR）轟擊 Sn 等離子體，從而釋放出 EUV 輻射，隨后通過收集鏡將 EUV 輻射會(huì)聚到中間焦點(diǎn)（IF）處。 然而，在這一過程中，冗余的紅外輻射若進(jìn)入曝光光學(xué)系統(tǒng)，將會(huì)產(chǎn)生熱負(fù)載，對(duì)光刻系統(tǒng)的穩(wěn)定性以及曝光圖樣質(zhì)量造成不良影響。因此，深入研究紅外輻
2025-07-22 17:20:36956 
1969年，40萬(wàn)名科技工作者憑借堅(jiān)韌不拔的協(xié)作精神，成功完成登月計(jì)劃“阿波羅11號(hào)任務(wù)”，開啟了人類探索宇宙的新紀(jì)元。2003年，來(lái)自6個(gè)國(guó)家20多家研究機(jī)構(gòu)的科學(xué)家，歷經(jīng)13年通力合作，完成了“人類基因組計(jì)劃”，重塑了現(xiàn)代醫(yī)學(xué)格局。當(dāng)人類團(tuán)結(jié)一心，便能夠不斷創(chuàng)造新的輝煌。
2025-07-21 15:57:13742 厚膠量產(chǎn)到ArF浸沒式膠驗(yàn)證，從樹脂國(guó)產(chǎn)化到EUV原料突破，一場(chǎng)靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長(zhǎng)的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A膠以120nm分辨率和93.7%的良率通過中芯國(guó)際28nm產(chǎn)線驗(yàn)證，開創(chuàng)了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083 SK海力士致力于成為“全方位面向AI的存儲(chǔ)器供應(yīng)商（Full Stack AI Memory Provider）”，不僅在DRAM領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新，在NAND閃存（NAND Flash，以下簡(jiǎn)稱NAND
2025-07-10 11:37:591508 SK海力士的成功神話背后，離不開眾多核心技術(shù)的支撐，其中最令人矚目的便是“微細(xì)工藝”。通過對(duì)肉眼難以辨識(shí)的微細(xì)電路進(jìn)行更為精細(xì)化的處理，SK海力士憑借壓倒性的技術(shù)實(shí)力，引領(lǐng)著全球半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展。這一切的基礎(chǔ)正源于“一個(gè)團(tuán)隊(duì)”協(xié)作精神（One-Team Spirit）。
2025-07-03 12:29:501593 圓進(jìn)行處理，將曝光形成的光刻圖案顯影出來(lái)。整個(gè)流程對(duì)設(shè)備性能要求極高，需要在毫秒級(jí)的時(shí)間內(nèi)完成響應(yīng)，同時(shí)確保納米級(jí)的操作精度，如此才能保證光刻工藝的準(zhǔn)確性與穩(wěn)定性，進(jìn)而保障半導(dǎo)體器件的制造質(zhì)量。 （注：圖片
2025-07-03 09:14:54770 
剛接觸電子設(shè)備安裝那會(huì)，我總在為選對(duì)連接器犯難。曾在組裝一套戶外監(jiān)控設(shè)備時(shí)，因選錯(cuò)連接器類型，設(shè)備沒用多久就出現(xiàn)連接不穩(wěn)定的問題。后來(lái)接觸到惟興科技電源連接器 5 芯 M16 接口的產(chǎn)品，才發(fā)現(xiàn)
2025-06-30 15:59:18513 的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng)，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備，如極紫外（EUV）光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55739 
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形的垂直度對(duì)器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準(zhǔn)控制光刻圖形垂直度是保障先進(jìn)制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13489 是 ASML 在極紫外光刻（EUV）技術(shù)基礎(chǔ)上的革命性升級(jí)。通過將光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑（NA）從 0.33 提升至 0.55，其分辨率從 13.5nm（半節(jié)距）躍升至 8nm（半節(jié)
2025-06-29 06:39:001916 HY-M8&M16動(dòng)態(tài)信號(hào)測(cè)試分析系統(tǒng)介紹
HY-M8/16是一款西安環(huán)測(cè)自動(dòng)化技術(shù)有限公司高性能數(shù)據(jù)采集分析的動(dòng)態(tài)信號(hào)測(cè)試分析系統(tǒng)主機(jī)。系統(tǒng)采用LAN接口和計(jì)算機(jī)進(jìn)行通訊，機(jī)箱可
2025-06-25 11:41:37
引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法，并探討白光
2025-06-25 10:19:48815 SK海力士在鞏固其面向AI的存儲(chǔ)器領(lǐng)域領(lǐng)導(dǎo)地位方面，HBM1無(wú)疑發(fā)揮了決定性作用。無(wú)論是率先開發(fā)出全球首款最高性能的HBM，還是確立并保持其在面向AI的存儲(chǔ)器市場(chǎng)的領(lǐng)先地位，這些成就的背后皆源于SK海力士秉持的“一個(gè)團(tuán)隊(duì)”協(xié)作精神（One Team Spirit）。
2025-06-18 15:31:021666 在 MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對(duì)準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491557 
至關(guān)重要。本文將介紹用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液，并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液 配方設(shè)計(jì) 低銅腐蝕光刻膠剝離液需兼顧光刻膠溶解能力與銅保護(hù)性能。其主要成分包括有機(jī)溶
2025-06-18 09:56:08693 聲波振蕩、等離子體處理和超臨界干燥，確保掩膜板圖案的完整性與光刻精度。該設(shè)備適用于EUV（極紫外光刻）、ArF（氟化氬光刻）及傳統(tǒng)光刻工藝，支持6寸至30寸掩膜板的
2025-06-17 11:06:03
測(cè)量對(duì)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量控制至關(guān)重要。本文將探討低含量 NMF 光刻膠剝離液及其制備方法，并介紹白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 低含量 NMF 光刻膠剝離液及制備方法 配方組成 低含量 NMF 光刻膠剝離液主要由低濃度 NMF、助溶劑、堿性物質(zhì)、緩蝕劑
2025-06-17 10:01:01678 通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程?；?b class="flag-6" style="color: red">將涂覆硅二氧化層絕緣層和光刻膠。光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解，然后在腐蝕后，流體圖案將留在基板上。無(wú)塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內(nèi)空氣中的微
2025-06-16 14:36:251070 ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 大家好，今天咱們來(lái)聊聊一個(gè)在工業(yè)自動(dòng)化、機(jī)器人、傳感器網(wǎng)絡(luò)等領(lǐng)域里，看似不起眼卻至關(guān)重要的“小家伙”——防水連接器8芯M16插頭。它就像我們身體里的毛細(xì)血管，負(fù)責(zé)將各種控制信號(hào)、傳感器數(shù)據(jù)等“血液
2025-06-09 16:46:29610 
的基礎(chǔ)，直接決定了這些技術(shù)的發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置：顯影是光刻工藝中的一個(gè)重要步驟，在曝光之后進(jìn)行。 作用：其作用是將曝光產(chǎn)生的潛在圖形，通過顯影液作用顯現(xiàn)出來(lái)。具體而言，是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127 SK海力士于5月20日至23日舉辦的2025年臺(tái)北國(guó)際電腦展（COMPUTEX Taipei 2025，以下簡(jiǎn)稱COMPUTEX）上，展示了其涵蓋AI服務(wù)器、個(gè)人電腦和移動(dòng)設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的豐富
2025-06-05 14:13:561805 
SK海力士宣布，5月19日于首爾COEX麻谷會(huì)展中心舉行的“第60屆發(fā)明日紀(jì)念儀式”上，來(lái)自HBM開發(fā)部門的宋清基TL榮庸銅塔產(chǎn)業(yè)勛章。
2025-06-03 09:36:481001 引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531108 
近日，SK海力士向無(wú)錫市首個(gè)應(yīng)急救援驛站（山水城（雪浪街道）石塘社區(qū)）捐贈(zèng)自動(dòng)體外除顫儀（AED）設(shè)備，助力提升基層應(yīng)急救援能力，為居民生命健康筑起堅(jiān)實(shí)屏障。
2025-05-28 15:36:51761 近年來(lái)，SK海力士屢獲創(chuàng)新成果，這些成就皆得益于“一個(gè)團(tuán)隊(duì)”協(xié)作精神（One Team Spirit）”。無(wú)論是創(chuàng)下歷史最佳業(yè)績(jī)、開發(fā)出全球領(lǐng)先產(chǎn)品，還是躍升成為全球頂級(jí)面向AI的存儲(chǔ)器供應(yīng)商，這些
2025-05-23 13:54:361014 。該產(chǎn)品具備全球領(lǐng)先的順序讀取性能與低功耗特性，專為端側(cè)AI進(jìn)行優(yōu)化；產(chǎn)品厚度減薄15%，適用于超薄旗艦智能手機(jī)。 ? SK海力士表示：“為了在移動(dòng)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)端側(cè)（On-device）AI的穩(wěn)定運(yùn)行
2025-05-23 01:04:008530 近日，SK海力士宣布，在首爾江南區(qū)韓國(guó)科學(xué)技術(shù)會(huì)館舉行的“2025年科學(xué)?信息通訊日紀(jì)念儀式”上，公司數(shù)字化轉(zhuǎn)型組織的都承勇副社長(zhǎng)榮獲了科學(xué)技術(shù)信息通信部頒發(fā)的銅塔產(chǎn)業(yè)勛章。
2025-05-09 10:29:10969 隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢(shì)，在特定領(lǐng)域正形成差異化競(jìng)爭(zhēng)格局。
2025-05-09 10:08:491370 
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長(zhǎng)可通過增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng)，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
增長(zhǎng)42.5%至267.29億美元，環(huán)比減少8.5%。 ? 然而不可忽視的是，在2025年一季度，SK海力士憑借在HBM領(lǐng)域的絕對(duì)優(yōu)勢(shì)，終結(jié)三星長(zhǎng)達(dá)四十多年的市場(chǎng)統(tǒng)治地位，以36.7%的市場(chǎng)份額首度登頂全球DRAM市場(chǎng)第一。 ? ? 其實(shí)從2024年SK海力士與三星在DRAM上的差距就已經(jīng)開始
2025-05-06 15:50:231210 
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337824 
得益于AI需求的有力推動(dòng)；高帶寬內(nèi)存(HBM)需求持續(xù)暴漲，這帶動(dòng)了英偉達(dá)供應(yīng)商SK海力士盈利大增158%。 據(jù)SK海力士公布的財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)數(shù)據(jù)顯示，在2025年第一季度SK海力士的營(yíng)收增長(zhǎng)42%；達(dá)到
2025-04-24 10:44:261231
三星電子在 HBM3 時(shí)期遭遇了重大挫折，將 70% 的 HBM 內(nèi)存市場(chǎng)份額拱手送給主要競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手 SK 海力士，更是近年來(lái)首度讓出了第一大 DRAM 原廠的寶座。這迫使三星在 HBM4 上采用
2025-04-18 10:52:53
隨著人工智能技術(shù)的迅猛發(fā)展，作為其核心支撐技術(shù)的高帶寬存儲(chǔ)器（以下簡(jiǎn)稱HBM）實(shí)現(xiàn)了顯著的增長(zhǎng)，為SK海力士在去年實(shí)創(chuàng)下歷史最佳業(yè)績(jī)做出了不可或缺的重要貢獻(xiàn)。業(yè)內(nèi)普遍認(rèn)為，SK海力士的成長(zhǎng)不僅體現(xiàn)在銷售額的大幅提升上，更彰顯了其在引領(lǐng)AI時(shí)代技術(shù)變革方面所發(fā)揮的重要作用。
2025-04-18 09:25:59992 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，據(jù)韓媒報(bào)道，SK海力士副總裁李圭（音譯）近日在學(xué)術(shù)會(huì)議上表示，SK海力士正在推行混合鍵合在 HBM 上的應(yīng)用。目前正處于研發(fā)階段，預(yù)計(jì)最早將應(yīng)用于HBM4E。 ? 據(jù)介紹，目前
2025-04-17 00:05:001060 人工智能與高性能計(jì)算（HPC）正以空前的速度發(fā)展，將動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器（DRAM）和NAND閃存等傳統(tǒng)存儲(chǔ)技術(shù)發(fā)揮到極致。為了滿足人工智能時(shí)代日益增長(zhǎng)的需求，業(yè)界正在探索超越傳統(tǒng)存儲(chǔ)技術(shù)的新興存儲(chǔ)技術(shù)。
2025-04-03 09:40:411709 3 月 28 日消息，根據(jù) SK 海力士向韓國(guó)金融監(jiān)管機(jī)構(gòu) FSS 披露的文件，該企業(yè)已在當(dāng)?shù)貢r(shí)間今日完成了收購(gòu)英特爾 NAND 閃存及 SSD 業(yè)務(wù)案的第二階段，交易正式完成。 這筆交易
2025-03-28 19:27:581228 
劑量的需求也加劇，從而造成了生產(chǎn)力的瓶頸。DSA技術(shù)：一種革命性的方法DSA技術(shù)通過利用嵌段共聚物的分子行為來(lái)解決EUV光刻面臨的挑戰(zhàn)。嵌段共聚物由兩個(gè)或多個(gè)化學(xué)性
2025-03-19 11:10:061259 
在現(xiàn)代電子設(shè)備的廣泛應(yīng)用中，對(duì)于能夠?qū)崿F(xiàn)多種功能集成的微控制器（MCU）的需求日益增長(zhǎng)。愛普生S1C17M00/M10系列正是為滿足這一需求而設(shè)計(jì)的高性能、低功耗的16位單片機(jī)。它們廣泛應(yīng)用于需要
2025-03-14 13:54:30915 
東芝電子元件及存儲(chǔ)裝置株式會(huì)社(東芝)近日在其位于日本西部兵庫(kù)縣姬路半導(dǎo)體工廠的車載功率半導(dǎo)體后道生產(chǎn)新廠房舉辦了竣工慶祝儀式。新廠房的產(chǎn)能將比2022財(cái)年的水平增加一倍以上，并將于2025財(cái)年上半年開始全面生產(chǎn)。
2025-03-13 18:08:161279 晶圓代工廠，于2020年9月從Magnachip Semiconductor分拆出來(lái)，并于2022年8月成為SK海力士的子公司。SK Powertech前身為Yes Power Technics，于2022年被SK Inc.收購(gòu)，以其在設(shè)計(jì)和制造碳化
2025-03-10 11:15:49749 3 月 6 日消息，綜合韓聯(lián)社、ZDNet Korea、MK 等多家韓媒報(bào)道，SK 海力士今日在內(nèi)部宣布將關(guān)閉其 CIS（CMOS 圖像傳感器）部門， 該團(tuán)隊(duì)的員工將轉(zhuǎn)崗至 AI 存儲(chǔ)器領(lǐng)域 。SK
2025-03-06 18:26:161078 據(jù)韓媒報(bào)道，SK海力士計(jì)劃于今年3月向其位于韓國(guó)的M15X晶圓廠派遣大量工程師，為該廠投產(chǎn)高頻寬內(nèi)存（HBM）做最后準(zhǔn)備。這一舉措標(biāo)志著M15X晶圓廠投產(chǎn)的準(zhǔn)備工作已進(jìn)入沖刺階段，預(yù)計(jì)將于2025年第四季度正式投產(chǎn)。
2025-02-18 14:46:031276 據(jù)最新報(bào)道，SK 海力士為滿足市場(chǎng)對(duì)高帶寬存儲(chǔ)器(HBM)的旺盛需求，正緊鑼密鼓地為M15X晶圓廠的投產(chǎn)做全面準(zhǔn)備。公司計(jì)劃于今年3月向M15X工廠派遣工程師團(tuán)隊(duì)，以確保工廠能夠順利啟動(dòng)并投入生產(chǎn)
2025-02-18 11:16:58884 列入貿(mào)易限制名單，也對(duì)SK海力士的決策產(chǎn)生了影響。業(yè)內(nèi)普遍預(yù)測(cè)，SK海力士將全面停止使用中國(guó)的EDA軟件，而三星電子也可能緊隨其后，做出類似決定。 若SK海力士與三星電子真的停用中國(guó)EDA軟件，它們對(duì)美國(guó)EDA軟件的依賴程度將顯著增強(qiáng)，這將
2025-02-18 10:51:541080 據(jù)韓國(guó)媒體報(bào)道，韓國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的巨頭SK海力士，為應(yīng)對(duì)美國(guó)可能出臺(tái)的新政策，已開始對(duì)其所使用的中國(guó)半導(dǎo)體電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)軟件進(jìn)行緊急審查。這一舉措反映了全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在地緣政治緊張局勢(shì)下
2025-02-18 09:47:04831 ? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來(lái)看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:242257 
光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要，但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)（NIL）的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備，并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503709 
據(jù)外媒最新報(bào)道，為了應(yīng)對(duì)NAND閃存市場(chǎng)的供應(yīng)過剩問題，三星電子與SK海力士兩大半導(dǎo)體巨頭已悄然采取措施，通過工藝轉(zhuǎn)換實(shí)現(xiàn)“自然減產(chǎn)”。 據(jù)業(yè)內(nèi)消息透露，自去年年底以來(lái)，三星電子和SK海力士正積極
2025-02-12 10:38:13857 SK 海力士近日正式公布了截至2024年12月31日的2024財(cái)年及第四季度財(cái)務(wù)報(bào)告，數(shù)據(jù)顯示，該公司在過去一年中取得了令人矚目的業(yè)績(jī)。 2024年全年，SK 海力士營(yíng)收達(dá)到了661929億韓元(約
2025-02-08 16:22:381660 半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行，因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:451240 
光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細(xì)介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:003591 
近日，SK海力士發(fā)布了其截至2024年12月31日的2024財(cái)年及第四季度財(cái)務(wù)報(bào)告，業(yè)績(jī)表現(xiàn)出色。 數(shù)據(jù)顯示，SK海力士在2024年全年?duì)I收達(dá)到了661929億韓元(當(dāng)前約合3346.71億元
2025-01-24 14:00:261054 挑戰(zhàn)傳統(tǒng)，打破限制，勇攀高峰，打破常規(guī)者們?cè)趯で箝_創(chuàng)性解決方案的過程中重塑規(guī)則。繼SK海力士品牌短片《誰(shuí)是打破常規(guī)者》播出后，將推出一系列文章，展示公司在重塑技術(shù)、重新定義行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)方面采取的各種“打破常規(guī)”的創(chuàng)新舉措。本系列第七篇文章將深入探討SK海力士在CXL技術(shù)領(lǐng)域的研發(fā)進(jìn)展。
2025-01-24 10:25:271219 
SK海力士近日發(fā)布了截至2024年12月31日的2024財(cái)年及第四季度財(cái)務(wù)報(bào)告，數(shù)據(jù)顯示公司再創(chuàng)佳績(jī)。2024財(cái)年，SK海力士的營(yíng)業(yè)收入高達(dá)66.1930萬(wàn)億韓元，營(yíng)業(yè)利潤(rùn)達(dá)到23.4673萬(wàn)億韓元，凈利潤(rùn)更是攀升至19.7969萬(wàn)億韓元，這一成績(jī)刷新了公司歷史上的最佳年度業(yè)績(jī)記錄。
2025-01-23 15:49:102056 數(shù)值孔徑 EUV 光刻中的微型化挑戰(zhàn) 晶體管不斷小型化，縮小至 3 納米及以下，這需要完美的執(zhí)行和制造。在整個(gè) 21 世紀(jì)，這種令人難以置信的縮小趨勢(shì)（從 90 納米到 7 納米及更小）開創(chuàng)了技術(shù)進(jìn)步的新時(shí)代。 在過去十年中，我們見證了將50
2025-01-22 14:06:531153 
近日，據(jù)最新業(yè)界消息，臺(tái)積電計(jì)劃在南科三期再建兩座CoWoS新廠，預(yù)計(jì)投資金額將超過2000億元新臺(tái)幣。這一舉措不僅彰顯了臺(tái)積電在先進(jìn)封裝技術(shù)領(lǐng)域的持續(xù)投入，也對(duì)其近期CoWoS砍單傳聞做出了實(shí)際擴(kuò)
2025-01-21 13:43:39875 產(chǎn)品價(jià)格。 繼美光和三星宣布減產(chǎn)計(jì)劃后，全球第二大NAND Flash廠商SK海力士也宣布了減產(chǎn)決定。據(jù)悉，SK海力士計(jì)劃將上半年NAND Flash存儲(chǔ)器的產(chǎn)量削減10%。這一決定無(wú)疑將對(duì)市場(chǎng)產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。 根據(jù)機(jī)構(gòu)先前發(fā)布的報(bào)告，SK海力士在NAND Flash存儲(chǔ)器領(lǐng)
2025-01-20 14:43:551095 本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456357 
在Hot Chips 2024上，海力士專注于AI加速器的標(biāo)準(zhǔn)DRAM之外的產(chǎn)品。該公司展示了其在內(nèi)存計(jì)算方面的最新進(jìn)展，這次是用其AiMX-xPU和LPDDR-AiM進(jìn)行LLM推理。其理念是，無(wú)需
2025-01-09 16:08:041322 
芯片制造、價(jià)值1.5億美元的極紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻掃描
2025-01-09 11:31:181280 SK海力士今年計(jì)劃大幅提升其高帶寬內(nèi)存（HBM）的DRAM產(chǎn)能，目標(biāo)是將每月產(chǎn)能從去年的10萬(wàn)片增加至17萬(wàn)片，這一增幅達(dá)到了70%。此舉被視為該公司對(duì)除最大客戶英偉達(dá)外，其他領(lǐng)先人工智能（AI）芯片公司需求激增的積極回應(yīng)。
2025-01-07 16:39:091306 SK海力士重返拉斯維加斯，參加2025年國(guó)際消費(fèi)類電子產(chǎn)品展覽會(huì)（Consumer Electronics Show，以下簡(jiǎn)稱“CES”），并展示其顛覆行業(yè)的面向人工智能的存儲(chǔ)創(chuàng)新技術(shù)。CES 2025于1月7日至10日舉行，匯聚了全球領(lǐng)先科技公司的頂尖人才與突破性技術(shù)，共同引領(lǐng)未來(lái)科技的發(fā)展潮流。
2025-01-07 16:20:461440 泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、企業(yè)背景與光刻加工電子束光刻設(shè)備挑戰(zhàn)某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)
2025-01-07 15:13:21
納米級(jí)別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟，負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進(jìn)步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
的專題演講外，有傳聞稱黃仁勛還將與SK集團(tuán)的會(huì)長(zhǎng)崔泰源進(jìn)行一場(chǎng)視頻對(duì)談。這場(chǎng)對(duì)談?lì)A(yù)計(jì)將聚焦于高頻寬記憶體(HBM)的最新發(fā)展，特別是英偉達(dá)與SK海力士在新一代HBM4方面的合作。據(jù)媒體報(bào)道，去年11月崔泰源曾透露，英偉達(dá)已要求SK海力士提前半年出貨新一代
2025-01-06 13:54:105989
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