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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>二氧化硅蝕刻標(biāo)準(zhǔn)操作程序研究報(bào)告

二氧化硅蝕刻標(biāo)準(zhǔn)操作程序研究報(bào)告

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無源晶振不起振的原因有哪些?

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AMC1204/AMC1204B 隔離式 ΔΣ 調(diào)制器產(chǎn)品總結(jié)

AMC1204和AMC1204B為1位數(shù)字輸出,隔離δσ(ΔΣ)調(diào)制器,時(shí)鐘頻率最高可達(dá)20 MHz。調(diào)制器輸出的數(shù)字隔離由二氧化硅(SiO)提供 ~2~ )屏障,具有高度的磁干擾能力。該屏障已經(jīng)
2025-11-19 11:22:281176

MOS管應(yīng)用中,常見的各種‘擊穿’現(xiàn)象

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化學(xué)氣相淀積工藝的核心特性和系統(tǒng)分類

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濕法蝕刻的最佳刻蝕條件是什么

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創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)與產(chǎn)業(yè)變革:超臨界二氧化碳發(fā)電技術(shù)的差異化發(fā)展路徑與前景展望

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復(fù)合光纜和光纖的區(qū)別差異大嗎

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華為聯(lián)合發(fā)布智能算網(wǎng)研究報(bào)告

2.0)研究報(bào)告》(以下簡稱“報(bào)告”)。報(bào)告闡述了AI時(shí)代數(shù)據(jù)中心網(wǎng)絡(luò)的演進(jìn)趨勢(shì)與挑戰(zhàn),并從AI大腦、AI聯(lián)接、AI網(wǎng)元三層網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)明確了數(shù)據(jù)中心網(wǎng)絡(luò)代際演進(jìn)的關(guān)鍵技術(shù)方向,同時(shí)也展示了華為面向AI時(shí)代的智能算網(wǎng)方案的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)力和影響力。
2025-09-25 09:37:39534

超臨界二氧化碳(sCO?)動(dòng)力循環(huán)技術(shù)原理及其在航空發(fā)動(dòng)機(jī)領(lǐng)域的應(yīng)用價(jià)值

超臨界二氧化碳動(dòng)力循環(huán)是一種以超臨界狀態(tài)的CO?作為工質(zhì)的熱力循環(huán)系統(tǒng)。
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一文詳解半導(dǎo)體與CMOS工藝

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2025-09-17 16:13:57993

精準(zhǔn)捕捉環(huán)境信號(hào):二氧化碳 / 溫濕度 / 光照度四合一傳感器解析

當(dāng)農(nóng)業(yè)大棚需要同時(shí)調(diào)控 CO?濃度、溫度、濕度和光照以促進(jìn)作物生長,當(dāng)辦公樓宇希望通過環(huán)境參數(shù)聯(lián)動(dòng)實(shí)現(xiàn)節(jié)能與舒適的平衡,單一傳感器的分散部署往往帶來布線雜亂、數(shù)據(jù)不同步等問題。 二氧化碳 / 溫濕度
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AMC1400EVM評(píng)估模塊技術(shù)解析:高精度隔離放大器的設(shè)計(jì)與應(yīng)用

二氧化硅 (SiO ~2~ ) 勢(shì)壘隔開。TI AMC1400具有10600V~PK~增強(qiáng)型隔離,用于雙極電流測量應(yīng)用。
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無線通信模塊為油田CO?注入提供可靠無線監(jiān)測方案

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無線數(shù)傳模塊在CO?驅(qū)油中的高效無線通訊應(yīng)用案例

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工作場所空氣中二氧化錫的電感耦合等離子體發(fā)射光譜測定法

空氣中二氧化錫 的方法主要是火焰原子吸收光譜法、 氫化物-原子熒光法、分光光度法和碟酸鉀滴定法等幾種化學(xué)方法(1,2) 0但是這幾種 方法易受到干擾, 重現(xiàn)性、靈敏度都比較差且操作繁瑣, 在 實(shí)際檢測工作中難以滿足需求。
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傾佳電子SiC MOSFET串?dāng)_Crosstalk效應(yīng)深度解析與綜合抑制策略研究報(bào)告

傾佳電子SiC MOSFET串?dāng)_Crosstalk效應(yīng)深度解析與綜合抑制策略研究報(bào)告 傾佳電子(Changer Tech)是一家專注于功率半導(dǎo)體和新能源汽車連接器的分銷商。主要服務(wù)于中國工業(yè)電源
2025-09-01 10:51:212666

華為聯(lián)合發(fā)布AI CITY城市智能體前瞻研究報(bào)告

在第十一屆中國國際大數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)“數(shù)字政府”交流活動(dòng)上,國家數(shù)據(jù)發(fā)展研究院攜手華為技術(shù)有限公司(以下簡稱“華為”)聯(lián)合發(fā)布《AI CITY城市智能體前瞻研究報(bào)告》,旨在探索人工智能新時(shí)代下的AI CITY智能體應(yīng)用和架構(gòu),為城市全域數(shù)字化轉(zhuǎn)型建設(shè)提供前瞻指引,為城市智慧化演進(jìn)注入創(chuàng)新活力。
2025-09-01 10:37:011119

傾佳電子碳化硅MOSFET短路特性與退飽和保護(hù)(DESAT)深度研究報(bào)告

傾佳電子碳化硅MOSFET短路特性與退飽和保護(hù)(DESAT)深度研究報(bào)告 傾佳電子(Changer Tech)是一家專注于功率半導(dǎo)體和新能源汽車連接器的分銷商。主要服務(wù)于中國工業(yè)電源、電力電子設(shè)備
2025-09-01 09:28:31849

尺寸雖小,內(nèi)有乾坤: Sensirion突破性微型二氧化碳傳感器發(fā)售

STCC4 現(xiàn) 已通過 盛思銳( Sensirion ) 全球 授權(quán) 渠道合作伙伴正式開售 。這款微型傳感器 體積小巧、性價(jià)比高、功耗低 , 滿足各類 大規(guī)模應(yīng)用場景中 的二氧化碳監(jiān)測需求
2025-08-28 18:17:3035555

半導(dǎo)體清洗選型原則是什么

氧化層)選擇對(duì)應(yīng)的清洗方式。例如,RCA法中的SC-1溶液擅長去除顆粒和有機(jī)殘留,而稀HF則用于精確蝕刻二氧化硅層。對(duì)于頑固碳沉積物,可能需要采用高溫Piranha
2025-08-25 16:43:38449

金屬鉻在微機(jī)電系統(tǒng)中的應(yīng)用

–230GPa 之間,優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性,尤其在空氣中能形成致密的氧化鉻鈍化層而抗腐蝕,以及對(duì)多種襯底,如硅、二氧化硅、玻璃襯底,展現(xiàn)出極佳的黏附力。這些特性使其成為MEMS中重要的功能材料和工藝輔助材料。
2025-08-25 11:32:481148

隔離式CAN收發(fā)器NSI1050-DDBR

NSI1050是隔離式的CAN收發(fā)器,與ISO11898-2標(biāo)準(zhǔn)完全兼容。NSI1050集成了兩通道數(shù)字隔離器和一個(gè)高性能CAN收發(fā)器。數(shù)字隔離器是基于電容隔離技術(shù)的二氧化硅隔離。高度集成的解決方案
2025-07-29 15:51:05

二氧化碳溫濕度光照度傳感器:四合一,在線監(jiān)測氣體

二氧化碳溫濕度光照度傳感器是一種多功能環(huán)境監(jiān)測設(shè)備,集成了測量二氧化碳濃度(CO?)、空氣溫度及光照強(qiáng)度(照度)四種關(guān)鍵環(huán)境參數(shù)的功能于一體。通過內(nèi)置的多類型傳感器元件,實(shí)現(xiàn)對(duì)環(huán)境條件的實(shí)時(shí)、同步
2025-07-15 17:21:28601

為什么LED芯片正電極要插入二氧化硅電流阻擋層,而負(fù)極沒有?

為什么LED正電極需要二氧化硅阻擋層?回答:LED芯片正極如果沒有二氧化硅阻擋層,芯片會(huì)出現(xiàn)電流分布不均,電流擁擠效應(yīng),電極燒毀等現(xiàn)象。由于藍(lán)寶石的絕緣性,傳統(tǒng)LED的N和P電極都做在芯片出光面
2025-07-14 17:37:33941

晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕的原因

在集成電路生產(chǎn)過程中,晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕現(xiàn)象是一個(gè)常見但復(fù)雜的問題。每個(gè)環(huán)節(jié)都有可能成為晶圓背面二氧化硅邊緣腐蝕的誘因,因此需要在生產(chǎn)中嚴(yán)格控制每個(gè)工藝參數(shù),尤其是對(duì)邊緣區(qū)域的處理,以減少這種現(xiàn)象的發(fā)生。
2025-07-09 09:43:08762

氧化硅薄膜和氮化硅薄膜工藝詳解

氧化硅薄膜和氮化硅薄膜是兩種在CMOS工藝中廣泛使用的介電層薄膜。
2025-06-24 09:15:231750

VirtualLab:衍射角計(jì)算器

例子。在這種情況下,我們選擇第一種材料作為熔融二氧化硅,第種材料作為空氣,入射角為25°。我們將顯示的最大顯示級(jí)數(shù)為1。 通用光學(xué)設(shè)置中的示例 我們采用通用光學(xué)設(shè)置來模擬類似的系統(tǒng)。衍射光柵由光柵組件
2025-06-16 08:48:19

芯片制造中解耦等離子體氮化工藝流程

在5納米以下的芯片制程中,晶體管柵極介質(zhì)層的厚度已縮至1納米以下(約5個(gè)原子層)。此時(shí),傳統(tǒng)二氧化硅(SiO?)如同漏水的薄紗,電子隧穿導(dǎo)致的漏電功耗可占總功耗的40%。
2025-06-12 14:11:582388

主流氧化工藝方法詳解

在集成電路制造工藝中,氧化工藝也是很關(guān)鍵的一環(huán)。通過在硅晶圓表面形成二氧化硅(SiO?)薄膜,不僅可以實(shí)現(xiàn)對(duì)硅表面的保護(hù)和鈍化,還能為后續(xù)的摻雜、絕緣、隔離等工藝提供基礎(chǔ)支撐。本文將對(duì)氧化工藝進(jìn)行簡單的闡述。
2025-06-12 10:23:222138

VirtualLab Fusion應(yīng)用:多反射系統(tǒng)的非序列建模

具對(duì)鈉D線的研究 在VirtualLab Fusion中,建立了一個(gè)帶有二氧化硅間隔標(biāo)準(zhǔn)具的光學(xué)計(jì)量系統(tǒng)來測量鈉D線。此外,還研究了實(shí)際涂層反射率的影響。
2025-06-12 08:49:47

VirtualLab Fusion應(yīng)用:利用Fabry-Pérot標(biāo)準(zhǔn)具檢測鈉D線

了具有二氧化硅間隔標(biāo)準(zhǔn)具的光學(xué)測量系統(tǒng),并測量鈉的D線。 利用非序列場追跡技術(shù),充分考慮了標(biāo)準(zhǔn)具中多次反射引起的相干現(xiàn)象,并研究了涂層反射率對(duì)條紋對(duì)比度的影響。 建模任務(wù) 所有譜線的可視化 銳度與涂層反射率 銳度與涂層反射率
2025-06-05 08:47:54

VirtualLab Fusion應(yīng)用:氧化硅膜層的可變角橢圓偏振光譜(VASE)分析

研究光柵樣品的情況下,這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。 橢圓偏振對(duì)小厚度變化的敏感性 為了評(píng)估橢偏儀對(duì)涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性,對(duì)10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅
2025-06-05 08:46:36

樹莓派的可持續(xù)解決方案:年二氧化碳排放量減少了43噸!

通過改變將連接器焊接到計(jì)算機(jī)上的方式,我們將產(chǎn)品退貨率降低了一半,制造時(shí)間縮短了15%,并且每年減少了43噸的二氧化碳排放。在產(chǎn)品設(shè)計(jì)和制造過程中,微小的改變往往能對(duì)環(huán)境影響產(chǎn)生重大差異。在樹莓派
2025-05-30 16:32:50822

光電耦合器行業(yè)研究報(bào)告

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《光電耦合器行業(yè)研究報(bào)告.docx》資料免費(fèi)下載
2025-05-30 15:33:130

半導(dǎo)體硅表面氧化處理:必要性、原理與應(yīng)用

半導(dǎo)體硅作為現(xiàn)代電子工業(yè)的核心材料,其表面性質(zhì)對(duì)器件性能有著決定性影響。表面氧化處理作為半導(dǎo)體制造工藝中的關(guān)鍵環(huán)節(jié),通過在硅表面形成高質(zhì)量的二氧化硅(SiO?)層,顯著改善了硅材料的電學(xué)、化學(xué)和物理
2025-05-30 11:09:301781

晶圓表面清洗靜電力產(chǎn)生原因

表面與清洗設(shè)備(如夾具、刷子、兆聲波噴嘴)或化學(xué)液膜接觸時(shí),因材料電子親和力差異(如半導(dǎo)體硅與金屬夾具的功函數(shù)不同),發(fā)生電荷轉(zhuǎn)移。例如,晶圓表面的二氧化硅(SiO?)與聚丙烯(PP)材質(zhì)的夾具摩擦后,可能因電子轉(zhuǎn)移產(chǎn)生凈電荷。 液體介質(zhì)影響:清洗
2025-05-28 13:38:40743

煙氣檢測儀是什么?這里為你精準(zhǔn)揭秘!

檢測儀是一種用于檢測煙氣中各種成分和參數(shù)的設(shè)備。它就像是環(huán)境和工業(yè)生產(chǎn)的“健康衛(wèi)士”,能夠?qū)崟r(shí)、準(zhǔn)確地測量煙氣中的多種物質(zhì),如一氧化碳、二氧化碳、二氧化硫、氮氧化物等有害氣體的濃度,以及煙氣的溫度、壓力
2025-05-26 13:59:06

Low-κ介電材料,突破半導(dǎo)體封裝瓶頸的“隱形核心”

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 Low-κ 介電材料作為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的核心材料,其技術(shù)演進(jìn)與產(chǎn)業(yè)應(yīng)用正深刻影響著集成電路的性能突破與成本優(yōu)化。這類介電常數(shù)顯著低于傳統(tǒng)二氧化硅(κ≈4.0)的絕緣材料,通過
2025-05-25 01:56:001731

氧化鋯傳感器工作原理

氧化鋯氧傳感器并不測量氧濃度的%,而是測量氣體或氣體混合物中氧氣的分壓。氧化鋯氧傳感器傳感器的核心采用了一種經(jīng)過充分驗(yàn)證的小型二氧化鋯基元素,由于其創(chuàng)新的設(shè)計(jì),不需要參考?xì)怏w。這消除了傳感器可以在
2025-05-19 13:24:05979

呼氣末二氧化碳監(jiān)測中的傳感器應(yīng)用

01呼氣末二氧化碳呼氣末二氧化碳(ETCO2)是指呼氣終末期呼出的混合肺泡氣體中含有的二氧化碳?jí)海≒ETCO2)或二氧化碳濃度(CETCO2),已經(jīng)被認(rèn)為是除體溫、脈搏、呼吸、血壓、動(dòng)脈血氧飽和度
2025-05-19 13:20:27920

二氧化碳光聲傳感技術(shù)

室內(nèi)CO2濃度高通常是人類存在的結(jié)果。我們的身體吸入氧氣并排放二氧化碳,如果環(huán)境通風(fēng)不暢,二氧化碳會(huì)在室內(nèi)積聚。而且,現(xiàn)代建筑密集的隔熱層間接導(dǎo)致二氧化碳的增加。例如,減少消耗和加熱或冷卻成本的密集
2025-05-19 13:19:35742

AMC1200 ±250mV輸入、精密電流檢測基本隔離式放大器技術(shù)手冊(cè)

AMC1200 和 AMC1200B 是高精度隔離放大器,通過磁場抗擾度較高的二氧化硅 (SiO ~2~ ) 隔離層隔離輸出和輸入電路。該隔離層經(jīng) UL1577 與 VDE V 0884-10 標(biāo)準(zhǔn)
2025-05-09 14:22:531688

AMC1100 ±250mV輸入、精密電流檢測低成本基本隔離式放大器技術(shù)手冊(cè)

AMC1100 是一款高精度隔離放大器,通過具有高磁場抗擾度的二氧化硅 (SiO ~2~ ) 隔柵隔離輸出與輸入電路。根據(jù) DIN VDE V 0884-11: 2017-01 和 UL1577
2025-05-07 10:43:39834

AMC1200-Q1 汽車級(jí)、±250mV輸入、精密電流檢測基本隔離式放大器技術(shù)手冊(cè)

AMC1200-Q1 是一款高精度隔離放大器,此放大器的輸出與輸入電路由抗電磁干擾性能極強(qiáng)的二氧化硅 (SiO ~2~ ) 隔離層隔開。 該隔離層經(jīng) UL1577 與 IEC60747-5-2 標(biāo)準(zhǔn)
2025-05-06 10:24:13942

半導(dǎo)體boe刻蝕技術(shù)介紹

半導(dǎo)體BOE(Buffered Oxide Etchant,緩沖氧化蝕刻液)刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面氧化層的關(guān)鍵工藝,尤其在微結(jié)構(gòu)加工、硅基發(fā)光器件制作及氮化硅/二氧化硅刻蝕中廣
2025-04-28 17:17:255516

德賽西威AI出行趨勢(shì)研究報(bào)告發(fā)布

,帶來更加多元的智能互動(dòng)體驗(yàn),智能汽車將成為面向未來的智能空間。4月22日,德賽西威發(fā)布《德賽西威AI出行趨勢(shì)研究報(bào)告》(以下簡稱“報(bào)告”)。
2025-04-23 17:43:401070

芯片制造中的二氧化硅介紹

二氧化硅是芯片制造中最基礎(chǔ)且關(guān)鍵的絕緣材料。本文介紹其常見沉積方法與應(yīng)用場景,解析SiO?在柵極氧化、側(cè)墻注入、STI隔離等核心工藝中的重要作用。
2025-04-10 14:36:414406

VirtualLab:衍射角計(jì)算器

例子。在這種情況下,我們選擇第一種材料作為熔融二氧化硅,第種材料作為空氣,入射角為25°。我們將顯示的最大顯示級(jí)數(shù)為1。 通用光學(xué)設(shè)置中的示例 我們采用通用光學(xué)設(shè)置來模擬類似的系統(tǒng)。衍射光柵由光柵組件
2025-04-08 08:46:30

從芯片制造流程,探尋國產(chǎn)芯片突圍之路

。從沙子到芯片,需歷經(jīng)數(shù)百道工序。下面,讓我們深入了解芯片的制造流程。 一、從沙子到硅片(原材料階段) 沙子由氧和硅組成,主要成分是二氧化硅。芯片制造的首要步驟就是將沙子中的二氧化硅還原成硅錠,之后經(jīng)過提純,得到
2025-04-07 16:41:591257

耐高溫光纖的制造及性能研究

摘 要: 耐高溫光纖可以在高溫等惡劣環(huán)境中保持良好的光學(xué)穩(wěn)定性和機(jī)械可靠性。光纖本身的材質(zhì)為二氧化硅,能夠耐受高溫,因而耐高溫光纖的耐溫性能取決于其涂層材料。本文介紹了4種耐高溫涂料及其對(duì)應(yīng)的耐高溫
2025-04-02 13:37:151345

Low-K材料在芯片中的作用

Low-K材料是介電常數(shù)顯著低于傳統(tǒng)二氧化硅(SiO?,k=3.9–4.2)的絕緣材料,主要用于芯片制造中的層間電介質(zhì)(ILD)。其核心目標(biāo)是通過降低金屬互連線間的寄生電容,解決RC延遲(電阻-電容延遲)和信號(hào)串?dāng)_問題,從而提升芯片性能和集成度。
2025-03-27 10:12:233937

礦井下的“隱形守護(hù)者”:解碼礦用二氧化碳傳感器

在數(shù)百米深的地層之下,煤炭開采的轟鳴與礦工們的汗水交織成獨(dú)特的工業(yè)交響曲。而在這幽暗的巷道中,一種看不見的氣體——二氧化碳,正悄然威脅著礦工們的生命安全。據(jù)統(tǒng)計(jì),我國煤礦每年因有害氣體導(dǎo)致的安全事故
2025-03-24 18:22:19728

中科視語入選甲子光年《2025 中國AI Agent行業(yè)研究報(bào)告

3月12日,備受矚目的《2025中國AIAgent行業(yè)研究報(bào)告》由甲子光年重磅發(fā)布!在這份極具前瞻性的行業(yè)報(bào)告中,中科視語憑借卓越的實(shí)力脫穎而出,成功入選為國內(nèi)重點(diǎn)AIAgent廠商的典型案例。該報(bào)告
2025-03-13 16:24:491000

什么是高選擇性蝕刻

不同材料的刻蝕速率比,達(dá)到?>5:1?甚至更高的選擇比標(biāo)準(zhǔn)?。 一、核心價(jià)值與定義 l?精準(zhǔn)材料去除? 高選擇性蝕刻通過調(diào)整反應(yīng)條件,使目標(biāo)材料(如多晶硅、氮化硅)的刻蝕速率遠(yuǎn)高于掩膜或底層材料(如氧化硅、光刻膠),實(shí)現(xiàn)
2025-03-12 17:02:49809

STM32F207VET6的flash是512KB的,為什么對(duì)0x080A0000后512KB的內(nèi)存進(jìn)行操作程序沒有問題呢?

STM32F207VET6的flash是512KB的,為什么對(duì)0x080A0000后512KB的內(nèi)存進(jìn)行操作程序沒有問題?
2025-03-12 07:19:44

二氧化錳極化探頭的用法

輔助設(shè)備: 準(zhǔn)備好萬用表或電位測試儀等測量儀器,并確保儀器能正常工作,電量充足或連接好電源,量程選擇合適。 現(xiàn)場測量操作 插入探頭 :將探頭插入被測體附近的土壤中,若土壤干燥,應(yīng)在探頭周圍的土壤中澆入純凈水濕潤,以保證良
2025-03-11 19:55:27453

芯片制造的畫布:晶圓的奧秘與使命

圓不僅是芯片制造的基礎(chǔ)材料,更是連接設(shè)計(jì)與現(xiàn)實(shí)的橋梁。在這張畫布上,光刻、刻蝕、沉積等工藝如同精妙的畫筆,將虛擬的電路圖案轉(zhuǎn)化為現(xiàn)實(shí)的功能芯片。 晶圓:從砂礫到硅片 晶圓的起點(diǎn)是普通的砂礫,其主要成分是二氧化硅(SiO?
2025-03-10 17:04:251544

嵌入式軟件測試技術(shù)深度研究報(bào)告

嵌入式軟件測試技術(shù)深度研究報(bào)告 ——基于winAMS的全生命周期質(zhì)量保障體系構(gòu)建 一、行業(yè)技術(shù)瓶頸與解決方案框架 2025年嵌入式軟件測試領(lǐng)域面臨兩大核心矛盾: ? 安全合規(guī)與開發(fā)效率的沖突
2025-03-03 13:54:14876

VirtualLab Fusion應(yīng)用:利用Fabry-Pérot標(biāo)準(zhǔn)具檢測鈉D線

了具有二氧化硅間隔標(biāo)準(zhǔn)具的光學(xué)測量系統(tǒng),并測量鈉的D線。 利用非序列場追跡技術(shù),充分考慮了標(biāo)準(zhǔn)具中多次反射引起的相干現(xiàn)象,并研究了涂層反射率對(duì)條紋對(duì)比度的影響。 建模任務(wù) 所有譜線的可視化 銳度與涂層反射率 銳度與涂層反射率
2025-03-03 09:29:25

TOPCon太陽能電池接觸電阻優(yōu)化:美能TLM測試儀助力LECO工藝實(shí)現(xiàn)25.97%效率突破

n-TOPCon太陽能電池因其獨(dú)特的超薄二氧化硅(SiOx)層和n+多晶硅(poly-Si)層而受到關(guān)注,這種設(shè)計(jì)有助于實(shí)現(xiàn)低復(fù)合電流密度(J0)和降低接觸電阻(ρc)。激光增強(qiáng)接觸優(yōu)化(LECO
2025-02-26 09:02:581965

光纜是什么材質(zhì)做成

光纜主要是由光導(dǎo)纖維(細(xì)如頭發(fā)的玻璃絲)、塑料保護(hù)套管以及塑料外皮構(gòu)成。以下是關(guān)于光纜材質(zhì)的詳細(xì)解析: 一、光導(dǎo)纖維 材質(zhì):光導(dǎo)纖維主要由高純度的二氧化硅(即石英)拉制而成,這種材料具有優(yōu)異的透光性
2025-02-25 10:28:132941

8芯光纜拆開什么樣

二氧化硅(石英玻璃)制成,具有高速、寬帶、低損耗等優(yōu)良性能。 松套管:光纖通常被包裹在松套管中,松套管對(duì)光纖起到保護(hù)和支撐作用,防止光纖在光纜中受到損傷。 加強(qiáng)件:光纜內(nèi)部通常包含加強(qiáng)件,如鋼絲或纖維增強(qiáng)材料,以提高光
2025-02-24 10:16:39693

2025年汽車微電機(jī)及運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)行業(yè)研究報(bào)告

佐思汽研發(fā)布了《2025年汽車微電機(jī)及運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)行業(yè)研究報(bào)告》。
2025-02-20 14:14:442121

熵基云聯(lián)入選《零售媒體化專項(xiàng)研究報(bào)告

近日,備受行業(yè)關(guān)注的《零售媒體化專項(xiàng)研究報(bào)告(2024年)》由中國連鎖經(jīng)營協(xié)會(huì)(CCFA)權(quán)威發(fā)布。在該報(bào)告中,熵基科技旗下的智慧零售全新商業(yè)品牌——熵基云聯(lián),憑借其卓越的創(chuàng)新性智慧零售解決方案
2025-02-17 11:17:27849

上海光機(jī)所在二氧化釩連續(xù)激光相變研究方面取得進(jìn)展

氧化釩連續(xù)激光相變模擬 近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高功率激光元件技術(shù)與工程部王胭脂研究員團(tuán)隊(duì)在二氧化釩連續(xù)激光相變研究方面取得進(jìn)展,相關(guān)成果以“Damage mechanism
2025-02-13 08:56:04579

儀表機(jī)房和配電室應(yīng)配備什么類型的滅火器?

》GB50140-2005,配電室屬于E類火災(zāi)場所,推薦使用二氧化碳滅火器和磷酸銨鹽干粉滅火器。 二氧化碳滅火器: 二氧化碳滅火器因其良好的電絕緣性能,可以有效地?fù)錅?00伏以下電壓的帶電電器設(shè)備引起的火災(zāi)。二氧化碳在滅火時(shí)通過降低氧氣
2025-02-11 11:01:575839

VirtualLab Fusion應(yīng)用:氧化硅膜層的可變角橢圓偏振光譜(VASE)分析

研究光柵樣品的情況下,這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。 橢圓偏振對(duì)小厚度變化的敏感性 為了評(píng)估橢偏儀對(duì)涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性,對(duì)10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅
2025-02-05 09:35:38

洞察每一絲變化:壁掛式二氧化碳傳感器,工業(yè)環(huán)境的 “透視眼”

引言:工業(yè)環(huán)境監(jiān)測需求與挑戰(zhàn) 在工業(yè)生產(chǎn)的廣袤版圖中,環(huán)境參數(shù)的微妙變化如同隱藏在幕后的操盤手,深刻影響著生產(chǎn)的安全、效率與質(zhì)量。尤其是二氧化碳濃度,作為一個(gè)關(guān)鍵的環(huán)境指標(biāo),其每一絲變化都可
2025-01-13 14:23:02952

《一云多芯算力調(diào)度研究報(bào)告》聯(lián)合發(fā)布

近日,浪潮云海攜手中國軟件評(píng)測中心、騰訊云等十余家核心機(jī)構(gòu)與廠商,共同發(fā)布了《一云多芯算力調(diào)度研究報(bào)告》。該報(bào)告深入探討了當(dāng)前一云多芯技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)與挑戰(zhàn)。 報(bào)告指出,一云多芯技術(shù)正處于從混合部署
2025-01-10 14:18:04752

JCMsuite—單模光纖傳播模式

在本教程項(xiàng)目中,我們計(jì)算了帶有摻雜二氧化硅芯的圓柱形光纖的基本傳播模式。 磁芯具有相對(duì)介電常數(shù)?core=2.113和直徑dcore=8.2μm。包層具有相對(duì)介電常數(shù)?cladding
2025-01-09 08:57:35

OptiFDTD應(yīng)用:用于光纖入波導(dǎo)耦合的硅納米錐仿真

轉(zhuǎn)換器。[2] 錐形耦合器可以是線性[1]或拋物線性[2]過渡。 選擇Silicon-on-insulator(SOI)技術(shù)作為納米錐和波導(dǎo)的平臺(tái),因?yàn)樗峁└哒凵渎时?,包?b class="flag-6" style="color: red">二氧化硅層作為光學(xué)緩沖器
2025-01-08 08:51:53

紅外 CO2(二氧化碳) 氣體傳感器和分析模組

隨著科技的進(jìn)步,人們對(duì)于生活以及身體健康關(guān)注越來越高。CO2(二氧化碳)是地球大氣的重要組成部分,與人類生活息息相關(guān)。關(guān)注CO2(二氧化碳)氣體,監(jiān)測CO2(二氧化碳)氣體至關(guān)重要。CO2(二氧化碳)傳感器的應(yīng)用領(lǐng)域和選擇方案值得我們關(guān)注。
2025-01-07 17:01:091187

二氧化碳雪清洗技術(shù)在醫(yī)療器械上的應(yīng)用-人工心臟

”。-摘錄自澎湃新聞這里不得不提在這成功的背后使用到的一項(xiàng)黑科技——二氧化碳雪清洗首先我們先來了解下全磁懸浮人工心臟,它的復(fù)雜性和精密性使其成為醫(yī)療界的頂尖產(chǎn)品,被譽(yù)為“
2025-01-06 16:23:14710

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