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實(shí)現(xiàn)20nm及更尖端工藝的3D芯片堆疊

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關(guān)于賽靈思(Xilinx) 20nm公告最新常見問題解答

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蘋果將于2014年采用臺(tái)積電20nm工藝芯片

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憑借20nm/3D IC技術(shù) 賽靈思搶攻Smarter Systems商機(jī)

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明導(dǎo)電子CEO:20nm工藝后 摩爾定律或失效

Mentor CEO認(rèn)為:進(jìn)入20nm、14/16nm及10nm工藝時(shí)代后,摩爾定律可能會(huì)失效,每個(gè)晶體管成本每年的下降速度不到30%,這導(dǎo)致企業(yè)面臨的成本挑戰(zhàn)會(huì)更加嚴(yán)峻。
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蘋果A8處理器最新消息:采用TSMC 20nm制程工藝

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2013-12-16 08:56:432381

高通驍龍810搶先看:64位八核,20nm工藝

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2014-01-23 09:35:183038

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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的未來:3D堆疊封裝技術(shù)

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據(jù)臺(tái)灣對外貿(mào)易發(fā)展協(xié)會(huì)(TAITRA)透露,芯片代工巨頭臺(tái)積電(TSMC)有望超過intel,在2011年底推出業(yè)內(nèi)首款采用3-D芯片堆疊技術(shù)的半導(dǎo)體芯片產(chǎn)品。
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基于Altera 20nm及更小尺寸工藝的系統(tǒng)技術(shù)特性及功能

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2012-09-07 09:41:08703

Mentor的CalibreLFD獲得TSMC的20nm制造工藝認(rèn)證

Mentor Graphics公司日前宣布Calibre LFD(光刻友好設(shè)計(jì))光刻檢查工具已獲得TSMC的20nm IC制造工藝認(rèn)證。 Calibre LFD可對熱點(diǎn)進(jìn)行識別,還可對設(shè)計(jì)工藝空間是否充足進(jìn)行檢查。光學(xué)臨近校正法
2012-09-29 10:30:462224

Mentor CalibreLFD獲得TSMC的20nm制造工藝認(rèn)證

電子發(fā)燒友網(wǎng)核心提示 :Mentor Graphics公司日前宣布Calibre LFD(光刻友好設(shè)計(jì))光刻檢查工具已獲得TSMC的20nm IC制造工藝認(rèn)證。 Calibre LFD可對熱點(diǎn)進(jìn)行識別,還可對設(shè)計(jì)工藝空間是否充足進(jìn)
2012-10-08 16:00:141264

Altera:20nm技術(shù)延續(xù)硅片融合承諾

近期,Altera發(fā)布其下一代20nm產(chǎn)品中規(guī)劃的幾項(xiàng)關(guān)鍵創(chuàng)新技術(shù),延續(xù)在硅片融合上的承諾,克服了20nm設(shè)計(jì)五大挑戰(zhàn),實(shí)現(xiàn)了系統(tǒng)集成、串行帶寬、DSP性能三大突破。
2012-10-16 11:29:101517

深入剖析FPGA 20nm工藝 Altera創(chuàng)新發(fā)展之道

電子發(fā)燒友網(wǎng)核心提示: 本文就可編程邏輯廠商阿爾特拉(Altera)公司首次公開的20nm創(chuàng)新技術(shù)展開調(diào)查以及深入的分析;深入闡述了FPGA邁向20nm工藝,Altera憑借其異構(gòu)3D IC、高速收發(fā)器
2012-11-01 13:48:582580

賽靈思(Xilinx)解讀20nm的價(jià)值:繼續(xù)領(lǐng)先一代

電子發(fā)燒友網(wǎng)訊:關(guān)于摩爾定律的經(jīng)濟(jì)活力問題,有很多的討論。在過去的一年中,20nm節(jié)點(diǎn)進(jìn)入到這個(gè)辯論的前沿和中心。無論說辭如何,包括賽靈思在內(nèi)的行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)在20nm研發(fā)上的積極
2012-11-14 11:19:521661

搶占20nm制高點(diǎn),Xilinx下一代產(chǎn)品優(yōu)勢全解析

Xilinx公布其在20nm產(chǎn)品的表現(xiàn)上還將保持領(lǐng)先一代的優(yōu)勢,究竟在20 nm制程上,Xilinx的產(chǎn)品有哪些演進(jìn)使其保持領(lǐng)先競爭對手一代的優(yōu)勢?詳見本文
2013-01-10 09:33:431314

TSMC將為蘋果提供AP/GPU集成的解決方案,并采用20nm SoC工藝

臺(tái)灣半導(dǎo)體制造公司(TSMC)將為蘋果提供AP/ GPU集成的解決方案,并且采用20nm Soc片上系統(tǒng)工藝為蘋果代工。
2013-01-17 20:58:171766

世界最尖端3D打印機(jī)將亮相

本月25日,2013年3D打印技術(shù)產(chǎn)業(yè)化論壇將于東莞南城天安數(shù)碼城舉行,屆時(shí),全球頂尖3D打印機(jī)制造商美國Stratasys公司將展出當(dāng)今世界最尖端3D打印機(jī)及相關(guān)設(shè)備。
2013-04-22 11:37:111488

賽靈思發(fā)布UltraScale架構(gòu),20nm開始投片

Programmable器件;發(fā)布行業(yè)第一個(gè)ASIC級可編程架構(gòu)UltraScale?。這些具有里程碑意義的行業(yè)第一發(fā)布,延續(xù)了賽靈思在28nm領(lǐng)域投片首款器件以及在All Programmable SoC、All Programmable 3D IC和SoC增強(qiáng)型設(shè)計(jì)套件上所實(shí)現(xiàn)的一系列行業(yè)第一的優(yōu)勢。
2013-07-09 20:01:504286

TSMC 和 Cadence 合作開發(fā)3D-IC參考流程以實(shí)現(xiàn)真正的3D堆疊

基于Wide I/O接口的3D堆疊,在邏輯搭載存儲(chǔ)器設(shè)計(jì)上進(jìn)行了驗(yàn)證 ,可實(shí)現(xiàn)多塊模的整合。它將臺(tái)積電的3D堆疊技術(shù)和Cadence?3D-IC解決方案相結(jié)合,包括了集成的設(shè)計(jì)工具、靈活的實(shí)現(xiàn)平臺(tái),以及最終的時(shí)序物理簽收和電流/熱分析。
2013-09-26 09:49:201717

20/16nm將成主流 先進(jìn)工藝怎適應(yīng)?

017年20nm、16nm及以下的先進(jìn)工藝將成為主流,這對我們設(shè)計(jì)業(yè)、制造業(yè)是一個(gè)很大的啟示:我們怎么樣適應(yīng)全球先進(jìn)工藝
2013-12-16 09:40:212411

使用Xilinx 20nm工藝的UltraScale FPGA來降低功耗的19種途徑

在絕大部分使用電池供電和插座供電的系統(tǒng)中,功耗成為需要考慮的第一設(shè)計(jì)要素。Xilinx決定使用20nm工藝的UltraScale器件來直面功耗設(shè)計(jì)的挑戰(zhàn),本文描述了在未來的系統(tǒng)設(shè)計(jì)中,使用Xilinx 20nm工藝的UltraScale FPGA來降低功耗的19種途徑。
2018-07-14 07:21:006608

Intel的22nm 3D工藝牛,到底牛到什么程度?

intel的22nm 3D工藝牛,到底牛到什么程度,到底對業(yè)界有神馬影響,俺也搞不太清楚。這不,一封email全搞定了。
2017-02-11 10:47:111694

20nm技術(shù)的發(fā)展應(yīng)景

  20nm會(huì)延續(xù)摩爾定律在集成上發(fā)展趨勢,但是要付出成本代價(jià)。2.5D封裝技術(shù)的發(fā)展,進(jìn)一步提高了集成度,但是也增大了成本,部分解決了DRAM總線電源和帶寬問題,在一個(gè)封裝中集成了種類更多的IC。隨著系統(tǒng)性能的提高,這一節(jié)點(diǎn)也增加了體系結(jié)構(gòu)的復(fù)雜度。目前為止,它也是功耗管理最復(fù)雜的節(jié)點(diǎn)。
2017-09-15 09:54:3010

賽靈思業(yè)界20nm技術(shù)首次投片標(biāo)志著UltraScale架構(gòu)時(shí)代來臨

在28nm技術(shù)突破的基礎(chǔ)上,賽靈思又宣布推出基于20nm節(jié)點(diǎn)的兩款業(yè)界首創(chuàng)產(chǎn)品。賽靈思是首家推出20nm商用芯片產(chǎn)品的公司。此外,該新型器件也是賽靈思將向市場推出的首款采用UltraScale技術(shù)
2018-01-12 05:49:451061

什么是3D NAND閃存?有什么優(yōu)勢?

層數(shù)的增加也就意味著對工藝、材料的要求會(huì)提高,要想達(dá)到140層堆疊就必須使用新的基礎(chǔ)材料。而且在堆疊層數(shù)增加的時(shí)候,存儲(chǔ)堆棧的高度也在增大,然而每層的厚度卻在縮小,以前的32/36層3D NAND
2018-05-28 16:25:4851340

市場對于3D NAND的需求有多大?140層3D NAND層數(shù)還會(huì)遠(yuǎn)嗎?

而且在堆疊層數(shù)增加的時(shí)候,存儲(chǔ)堆棧的高度也在增大,然而每層的厚度卻在縮小,以前的32/36層3D NAND的堆棧厚度為2.5μm,層厚度大約70nm,48層的閃存堆棧厚度為3.5μm,層厚度減少到
2018-06-03 09:50:556262

半導(dǎo)體的3D之路-兼論三維單片堆疊

三維單片堆疊基本上是多芯片堆疊,先將需要高溫工藝芯片做好,然后將其它已半制造好的芯片以離子切割(ion cut,基本上是氫離子)方式打薄,粘著于原來的芯片之上,繼續(xù)后面的低溫工藝。由于芯片內(nèi)各模塊
2018-08-17 14:54:444930

兩張圖看懂Intel3D邏輯芯片封裝技術(shù)

在近日舉行的英特爾“架構(gòu)日”活動(dòng)中,英特爾不僅展示了基于10納米的PC、數(shù)據(jù)中心和網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng),支持人工智能和加密加速功能的下一代“Sunny Cove”架構(gòu),還推出了業(yè)界首創(chuàng)的3D邏輯芯片封裝技術(shù)——Foveros。這一全新的3D封裝技術(shù)首次引入了3D堆疊的優(yōu)勢,可實(shí)現(xiàn)在邏輯芯片堆疊邏輯芯片。
2018-12-14 16:03:409951

英特爾為你解說“Foveros”邏輯芯片3D堆疊技術(shù)

在近日舉行的英特爾“架構(gòu)日”活動(dòng)中,英特爾不僅展示了基于10納米的PC、數(shù)據(jù)中心和網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng),支持人工智能和加密加速功能的下一代“Sunny Cove”架構(gòu),還推出了業(yè)界首創(chuàng)的3D邏輯芯片封裝技術(shù)——Foveros。這一全新的3D封裝技術(shù)首次引入了3D堆疊的優(yōu)勢,可實(shí)現(xiàn)在邏輯芯片堆疊邏輯芯片。
2018-12-14 15:35:328854

英特爾邏輯芯片3D堆疊技術(shù)“Foveros” 將實(shí)現(xiàn)世界一流性能

英特爾近日向業(yè)界推出了首款3D邏輯芯片封裝技術(shù)“Foveros”,據(jù)悉這是在原來的3D封裝技術(shù)第一次利用3D堆疊的優(yōu)點(diǎn)在邏輯芯片上進(jìn)行邏輯芯片堆疊。也是繼多芯片互連橋接2D封裝技術(shù)之后的又一個(gè)顛覆技術(shù)。
2018-12-14 16:16:453316

什么是3D芯片堆疊技術(shù)3D芯片堆疊技術(shù)的發(fā)展歷程和詳細(xì)資料簡介

近日,武漢新芯研發(fā)成功的三片晶圓堆疊技術(shù)備受關(guān)注。有人說,該技術(shù)在國際上都處于先進(jìn)水平,還有人說能夠“延續(xù)”摩爾定律。既然3D芯片堆疊技術(shù)有如此大的作用,那今天芯師爺就跟大家一起揭開它的面紗。
2018-12-31 09:14:0034067

賽靈思最新發(fā)布的UltraScale+16nm系列FPGA、3D IC和MPSoC介紹

關(guān)鍵詞:UltraScale+ , MPSoC , 3D IC 引言 在賽靈思 20nm UltraScale MT 系列成功基礎(chǔ)上,賽靈思現(xiàn)又推出了全新的 16nm UltraScale+ 系列
2018-12-28 00:02:021503

2.5D異構(gòu)和3D晶圓級堆疊正在重塑封裝產(chǎn)業(yè)

對于目前的高端市場,市場上最流行的2.5D3D集成技術(shù)為3D堆疊存儲(chǔ)TSV,以及異構(gòu)堆疊TSV中介層。Chip-on-Wafer-on-Substrate(CoWos)技術(shù)已經(jīng)廣泛用于高性能計(jì)算
2019-02-15 10:42:198043

Xilinx宣布與TSMC開展7nm工藝合作

“臺(tái)積公司是我們在 28nm20nm 和 16nm 實(shí)現(xiàn)‘三連冠(3 Peat)’成功的堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。其出色的工藝技術(shù)、3D 堆疊技術(shù)和代工廠服務(wù),讓賽靈思在出色的產(chǎn)品、優(yōu)異的品質(zhì)、強(qiáng)大的執(zhí)行力以及領(lǐng)先的市場地位上享有了無與倫比的聲譽(yù)。
2019-08-01 09:24:522912

Global Foundries 12nm工藝3D封裝安謀芯片面世

對于3D封裝技術(shù),英特爾去年宣布了其對3D芯片堆疊的研究,AMD也談到了在其芯片上疊加3D DRAM和SRAM的方案。
2019-08-13 10:27:533414

英特爾10nm工藝的Foveros 3D立體芯片預(yù)計(jì)明年上市

年初,Intel推出了全新的Foveros 3D立體芯片封裝技術(shù),首款產(chǎn)品為Lakefield,基于英特爾最新的10nm工藝制造,集成了一個(gè)大核心CPU和四個(gè)小核心CPU,其中大核心
2019-09-03 11:23:004487

國際大廠們之間的“3D堆疊大戰(zhàn)”

困于10nm的Intel也在這方面尋找新的機(jī)會(huì),其在去年年底的“架構(gòu)日”活動(dòng)中,推出其業(yè)界首創(chuàng)的3D邏輯芯片封裝技術(shù)——Foveros,F(xiàn)overos首次引入3D堆疊的優(yōu)勢,可實(shí)現(xiàn)在邏輯芯片堆疊
2020-01-28 16:10:004118

Xilinx投片首個(gè)ASIC級可編程架構(gòu)的行業(yè)首款20nm器件

賽靈思UltraScale架構(gòu):行業(yè)第一個(gè)ASIC級可編程架構(gòu),可從20nm平面晶體管結(jié)構(gòu) (planar)工藝向16nm乃至FinFET晶體管技術(shù)擴(kuò)展,從單芯片(monolithic)到3D IC擴(kuò)展。
2019-12-18 15:30:231310

3D封裝技術(shù)定義和解析

SIP有多種定義和解釋,其中一說是多芯片堆疊3D封裝內(nèi)系統(tǒng)集成,在芯片的正方向堆疊2片以上互連的裸芯片的封裝。SIP是強(qiáng)調(diào)封裝內(nèi)包含了某種系統(tǒng)的功能封裝,3D封裝僅強(qiáng)調(diào)在芯片方向上的多芯片堆疊
2020-05-28 14:51:447076

臺(tái)積電和Google合作 推動(dòng)3D芯片制程工藝生產(chǎn)

他們未來的3nm工廠,預(yù)計(jì)2022年下半年臺(tái)積電3nm工藝就會(huì)投產(chǎn)。 當(dāng)然隨著半導(dǎo)體工藝的逐漸發(fā)展,工藝的升級也逐漸困難,所需的投入也越來越大,報(bào)團(tuán)合作也越來越多,臺(tái)積電拉了Google和AMD過來合作。 臺(tái)積電正在和Google合作,以推動(dòng)3D芯片
2020-11-30 15:50:101146

繼Intel、臺(tái)積電推出3D芯片封裝后,三星宣布新一代3D芯片技術(shù)

在Intel、臺(tái)積電各自推出自家的3D芯片封裝技術(shù)之后,三星也宣布新一代3D芯片技術(shù)——X-Cube,基于TSV硅穿孔技術(shù),可以將不同芯片搭積木一樣堆疊起來,目前已經(jīng)可以用于7nm及5nm工藝。
2020-10-10 15:22:582004

華為計(jì)劃在國內(nèi)建設(shè)45nm制程工藝起步的芯片工廠

 根據(jù)報(bào)道,華為將在國內(nèi)建設(shè)一家45nm制程工藝起步的芯片工廠,計(jì)劃在2021年底為物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備制造28nm芯片,并在2022年底之前為5G設(shè)備供應(yīng)20nm芯片。
2020-11-02 17:41:303542

Cadence Integrity 3D-IC平臺(tái)進(jìn)行工藝認(rèn)證

Integrity 3D-IC 是 Cadence 新一代多芯片設(shè)計(jì)解決方案,它將硅和封裝的規(guī)劃和實(shí)現(xiàn),與系統(tǒng)分析和簽核結(jié)合起來,以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)級驅(qū)動(dòng)的 PPA 優(yōu)化。 原生 3D 分區(qū)流程可自動(dòng)智能
2021-11-19 11:02:244231

三星3nm芯片量產(chǎn) 2nm芯片還遠(yuǎn)嗎

三星3nm芯片量產(chǎn) 2nm芯片還遠(yuǎn)嗎 全球第一款正式量產(chǎn)的3nm芯片即將出自三星半導(dǎo)體了,根據(jù)三星半導(dǎo)體官方的宣布,4D(GAA)架構(gòu)制程技術(shù)芯片正式開始生產(chǎn)。 4D(GAA)架構(gòu)制程是3D
2022-06-30 20:21:522069

SONY的堆疊式CMOS傳感器元件介紹

目前有多種基于 3D 堆疊方法, 主要包括: 芯片芯片堆疊( D2D) 、芯片與圓片的堆疊( D2W ) 以及圓片與圓片的堆疊( W2W) 。
2022-11-01 09:52:512488

詳解三維NAND集成工藝3D-NAND Integration Technology)

20nm 工藝節(jié)點(diǎn)之后,傳統(tǒng)的平面浮柵 NAND 閃速存儲(chǔ)器因受到鄰近浮柵 -浮柵的耦合電容干擾而達(dá)到了微縮的極限。為了實(shí)現(xiàn)更高的存儲(chǔ)容量,NAND集成工藝開始向三維堆疊方向發(fā)展。在三維NAND
2023-02-03 09:16:5717470

易于實(shí)現(xiàn)且全面的3D堆疊裸片器件測試方法

當(dāng)裸片尺寸無法繼續(xù)擴(kuò)大時(shí),開發(fā)者開始考慮投入對 3D 堆疊裸片方法的研究??紤]用于 3D 封裝的高端器件已經(jīng)將當(dāng)前的可測試性設(shè)計(jì) (DFT) 解決方案推向了極限。
2023-02-28 11:39:262362

基于20nm工藝制程的FPGA—UltraScale介紹

UltraScale是基于20nm工藝制程的FPGA,而UltraScale+則是基于16nm工藝制程的FPGA。
2023-03-09 14:12:548669

什么是3D NAND閃存?

我們之前見過的閃存多屬于Planar NAND平面閃存,也叫有2D NAND或者直接不提2D的,而3D 閃存,顧名思義,就是它是立體堆疊的,Intel之前用蓋樓為例介紹了3D NAND,普通NAND是平房,那么3D NAND就是高樓大廈,建筑面積一下子就多起來了,理論上可以無線堆疊。
2023-03-30 14:02:394222

淺談400層以上堆疊3D NAND的技術(shù)

3D NAND閃存是一種把內(nèi)存顆粒堆疊在一起解決2D或平面NAND閃存限制的技術(shù)。這種技術(shù)垂直堆疊了多層數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元,具備卓越的精度,可支持在更小的空間內(nèi),容納更高的存儲(chǔ)容量,從而有效節(jié)約成本、降低能耗,以及大幅度地提升性能。
2023-06-15 09:37:563209

3D打印技術(shù)的種類

有許多外行人認(rèn)為3D打印就是從熱噴嘴中擠出材料并堆疊成形狀,但其實(shí)3D打印遠(yuǎn)不止于此!今天南極熊將介紹七大類3D打印工藝,即使是3D打印小白也能清晰地區(qū)分不同的3D打印工藝。 事實(shí)上,3D 打印也
2023-06-29 15:36:274381

2025年后智能手機(jī)芯片將大量采用3D Chiplet封裝

隨著摩爾定律接近物理界限,在3納米以下的先進(jìn)工藝中,能夠負(fù)擔(dān)較高費(fèi)用的顧客受到限制,晶片sip和邏輯芯片3D堆疊概念正在成為重要的新一代趨勢。
2023-09-11 11:09:582010

2D/3D 熱分析和三裸片堆疊設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)

Cadence員工MohamedNaeim博士曾在CadenceLIVE歐洲用戶大會(huì)上做過一場題為《2D/3D熱分析和三裸片堆疊設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)》的演講,本文將詳細(xì)講述該演講內(nèi)容。實(shí)驗(yàn):兩個(gè)裸片是否優(yōu)于一個(gè)
2023-09-16 08:28:052057

3D芯片堆疊是如何完成

長期以來,個(gè)人計(jì)算機(jī)都可以選擇增加內(nèi)存,以便提高處理超大應(yīng)用和大數(shù)據(jù)量工作的速度。由于3D芯片堆疊的出現(xiàn),CPU芯粒也有了這個(gè)選擇,但如果你想打造一臺(tái)更具魅力的計(jì)算機(jī),那么訂購一款有超大緩存的處理器可能是正確的選擇。
2023-10-15 10:24:232733

當(dāng)芯片變身 3D系統(tǒng),3D異構(gòu)集成面臨哪些挑戰(zhàn)

當(dāng)芯片變身 3D 系統(tǒng),3D 異構(gòu)集成面臨哪些挑戰(zhàn)
2023-11-24 17:51:071969

什么是摩爾定律,“摩爾定律2.0”從2D微型化到3D堆疊

3D實(shí)現(xiàn)方面,存儲(chǔ)器比邏輯更早進(jìn)入實(shí)用階段。NAND閃存率先邁向3D 。隨著目前量產(chǎn)的20-15nm工藝,所有公司都放棄了小型化,轉(zhuǎn)而轉(zhuǎn)向存儲(chǔ)單元的三維堆疊,以提高每芯片面積的位密度。它被稱為“ 3D(三維)NAND ” 。
2023-12-02 16:38:402967

芯片3D堆疊封裝:開啟高性能封裝新時(shí)代!

在半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展歷程中,芯片封裝技術(shù)始終扮演著至關(guān)重要的角色。隨著集成電路設(shè)計(jì)復(fù)雜度的不斷提升和終端應(yīng)用對性能、功耗、尺寸等多方面要求的日益嚴(yán)苛,傳統(tǒng)的2D封裝技術(shù)已經(jīng)難以滿足市場的需求。在此背景下,芯片3D堆疊封裝技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生,成為半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展的新里程碑。
2025-02-11 10:53:452819

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