16日，三星電子宣布在基于EUV的高級節(jié)點(diǎn)方面取得了重大進(jìn)展，包括7nm批量生產(chǎn)和6nm客戶流片，以及成功完成5nm FinFET工藝的開發(fā)。 三星電子宣布其5納米（nm）FinFET工藝技術(shù)的開發(fā)
2019-04-18 15:48:47
7185 據(jù)外媒消息，全球最大存儲器芯片廠商三星電子在2月20日宣布，該公司位在韓國華城的新EUV半導(dǎo)體生產(chǎn)線已經(jīng)開始量產(chǎn)。三星電子的V1工廠是該公司的第一條致力于紫外線（EUV）光刻技術(shù)的半導(dǎo)體生產(chǎn)線，并
2020-02-24 08:58:557641 “7納米是很重要的節(jié)點(diǎn)，是生產(chǎn)工藝第一次轉(zhuǎn)向EUV的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。三星和臺積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術(shù)在7納米，而EUV是摩爾定律能夠進(jìn)一步延續(xù)到5納米以下的關(guān)鍵?！?Gartner(中國
2017-01-19 10:15:491818 在三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后，讓EUV輸出率獲得快速提升，臺積電決定在7nm強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計定案，5nm才決定全數(shù)導(dǎo)入。
2017-08-23 08:38:232095 韓媒BusinessKorea昨日報道，三星有意一口氣買下10臺單價為1.76億美元的EUV。三星如果真的這樣做，那就會提升其在7nm等先進(jìn)工藝上的領(lǐng)先優(yōu)勢。這一方面是由于EUV設(shè)備是未來集成電路
2017-10-24 06:47:006518 3月25日消息 三星電子（Samsung Electronics）宣布，已經(jīng)出貨100萬業(yè)界首款10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組。新的基于EUV的DRAM模塊已經(jīng)完成了全球客戶評估，并將為在高端PC、移動終端、企業(yè)級服務(wù)器等等應(yīng)用領(lǐng)域開啟新大門。
2020-03-26 09:12:564442 日前，據(jù)韓國媒體報道，三星電子和SK海力士都將在DRAM生產(chǎn)中導(dǎo)入EUV技術(shù)，以建立更高的技術(shù)壁壘。對此，美光（Micron）企業(yè)副總裁、中國臺灣美光董事長徐國晉表示，美光不打算跟進(jìn)，目前并無采用 EUV 計劃。
2020-10-09 10:34:452742 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。 據(jù)報道，SK
2020-10-31 06:47:001778 韓國三星近期積極將極紫外（EUV）曝光技術(shù)應(yīng)用在采用1z納米制程的DRAM記憶體生產(chǎn)上，并且完成了量產(chǎn)。而根據(jù)半導(dǎo)體分析機(jī)構(gòu)《TechInsights》拆解了分別采用EUV曝光技術(shù)和ArF-i曝光
2021-02-22 10:31:363352 由于西方的禁運(yùn)，中國芯片制造業(yè)無法得到EUV設(shè)備。但是全球能使用EUV的邏輯工藝制程制造商僅只有三家，分別是臺積電、三星及英特爾。
2021-02-23 18:09:475560 。 ? 圖源：SK海力士官網(wǎng) ? SK海力士將這一進(jìn)展定義為：意義非凡。 ? 激進(jìn)的三星和SK海力士 在談?wù)?b class="flag-6" style="color: red">EUV DRAM是否非凡之前，我們先了解一些關(guān)聯(lián)技術(shù)。從原理上說，光刻技術(shù)就是利用光化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法將掩模板上的圖案傳遞到晶圓的工藝技術(shù)。近半個多世紀(jì)，半導(dǎo)
2021-07-13 06:36:583394 
水平。 ? 美光的1γ節(jié)點(diǎn) ? 在今年五月，美光宣布將在日本引入EUV光刻機(jī)，用于開發(fā)下一代DRAM，基于最先進(jìn)的1γ節(jié)點(diǎn)。此消息一出，美光也就成為第一個為日本引入EUV光刻機(jī)的企業(yè)，美光計劃在未來幾年內(nèi)，為位于廣島的設(shè)施投資5000億日元持續(xù)
2023-10-10 01:13:002603 1. 消息稱三星將投資 10 萬億韓元用于半導(dǎo)體設(shè)備，大量采購 ASML EUV 光刻機(jī) ? 據(jù)報道稱，三星計劃進(jìn)口更多 ASML 極紫外（EUV）光刻設(shè)備。雖然由于合同中的保密條款未能披露具體細(xì)節(jié)
2023-11-15 09:59:011320 1. ASML 今年將向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報道，芯片制造設(shè)備商ASML今年將向臺積電、英特爾、三星交付最新的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)(High-NA EUV
2024-06-06 11:09:231946 `這幾年以來，國內(nèi)巨頭都在花大力氣研發(fā)內(nèi)存，以期打破壟斷，尤其是三星的壟斷。就移動DRAM而言，三星占了全球80%的份額，成為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的焦點(diǎn)。日前，三星一反常態(tài)，放緩了存儲器半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的擴(kuò)張
2018-10-12 14:46:09
ofweek電子工程網(wǎng)訊 國際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
三星在第三個國家建設(shè)相關(guān)工廠。對在中國設(shè)立生產(chǎn)基地的原因，三星方面稱，“中國IT領(lǐng)域非?；钴S，全世界V-NAND芯片有一半銷量在中國消化。在西安投產(chǎn)后，我們將就地供應(yīng)，希望獲得好的成績”?！ ‰m然韓國
2014-05-14 15:27:09
似乎遇到了一些問題 。
另一家韓媒《DealSite》當(dāng)?shù)貢r間17日報道稱，自 1z nm 時期開始出現(xiàn)的電容漏電問題正對三星 1c nm DRAM 的開發(fā)量產(chǎn)造成明顯影響。三星試圖通過適當(dāng)放寬線寬等
2025-04-18 10:52:53
三星電子近日在國際學(xué)會“IEDM 2015”上就20nm工藝的DRAM開發(fā)發(fā)表了演講。演講中稱，三星此次試制出了20nm工藝的DRAM，并表示可以“采用同樣的方法，達(dá)到10nm工藝”。 國際電子器件
2015-12-14 13:45:01
三星宣布將開發(fā)手持式裝置用的ＲＦＩＤ（ｒａｄｉｏ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ）讀取芯片，能讓使用者透過手機(jī)得知產(chǎn)品和服務(wù)信息，但三星并未透露產(chǎn)品何時上市。 三星指出，ＲＦＩＤ
2019-07-04 07:26:16
三星ic，大量求購三星ic，帝歐還長期回收ssd固態(tài)硬盤，回收服務(wù)器內(nèi)存條，回收硬盤，回收cpu,回收芯片，回收傳感器，收購連接器，收購鉭電容，回收sd卡，收購tf卡?；厥展S庫存ic，大量收購工廠庫存
2020-12-14 16:00:38
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2020-10-31 15:48:52
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2021-04-14 19:04:16
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2021-03-10 17:45:41
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2021-09-03 19:23:00
對DRAM芯片的強(qiáng)勁需求將繼續(xù)超過供應(yīng)，因三星和第二大記憶體芯片廠商SK海力士的新廠料在2019年前不會投產(chǎn)；此外，截至9月NAND閃存的需求則連續(xù)第六季超過供應(yīng)。供蘋果新手機(jī)使用的有機(jī)發(fā)光二極體（OLED）面板的銷售增長，也支撐了第四季獲利創(chuàng)紀(jì)錄新高的預(yù)期。
2017-10-13 16:56:04
/5nm等邏輯工藝，還會用在DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)上。 早前，三星還宣布，其位于華城的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)。據(jù)悉，V1廠為三星第一條專門生產(chǎn)EUV技術(shù)的生產(chǎn)線，該工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)的產(chǎn)品為7nm 7LPP
2020-02-27 10:42:16
年收購電子芯片，收購電子IC，收購DDR ,收購集成電路芯片，收購內(nèi)存芯片，大量回收SDRAM、DRAM、SRAM、DDR內(nèi)存芯片系列，三星，現(xiàn)代，閃迪，金士頓，鎂光，東芝，南亞，爾必達(dá)，華邦等各原裝品牌。帝
2021-08-20 19:11:25
DNW軟件只能用于三星的ARM芯片嗎？
2019-08-05 22:52:59
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2021-07-06 19:32:41
本周在火奴魯魯舉行的VLSI（超大規(guī)模集成電路）研討會上，三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)。
2018-06-22 15:16:001626 三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿，三星、高通宣布擴(kuò)大晶圓代工業(yè)務(wù)合作，包含高通下一代5G移動芯片，將采用三星7納米LPP（Low-Power Plus）極紫外光（EUV）制程。 新聞稿指出，通過7納米LPP
2018-02-23 07:31:561630 據(jù)報道，三星和高通就晶圓代工業(yè)務(wù)再進(jìn)一步的擴(kuò)大合作，據(jù)悉驍龍5G芯片組將有可能基于三星7nm EUV工藝打造，這次的合作計劃將長達(dá)十年。
2018-02-24 09:02:521246 EUV技術(shù)的7納米制程，直接上7納米LPP EUV制程技術(shù)的原因。如今，三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技（Synopsys）物理認(rèn)證，意味著7納米EUV制程將可全球量產(chǎn)了。
2018-06-19 15:06:005263 早前ASML兩年前提到過內(nèi)存在進(jìn)入1Y nm節(jié)點(diǎn)時就需要考慮EUV工藝了，實(shí)際上并沒有，包括三星在內(nèi)的三大DRAM巨頭都沒有很快進(jìn)入EUV節(jié)點(diǎn)的打算。
2018-06-07 14:49:006864 的進(jìn)度表
在內(nèi)存工藝上，美光認(rèn)為1α及1β工藝上依然都不需要EUV光刻工藝，不過早前ASML兩年前提到過內(nèi)存在進(jìn)入1Y nm節(jié)點(diǎn)時就需要考慮EUV工藝了，實(shí)際上并沒有，包括三星在內(nèi)的三大DRAM巨頭都沒有很快進(jìn)入EUV節(jié)點(diǎn)的打算。
2018-06-08 14:29:076259 
另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當(dāng)然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污染、自修正機(jī)制過關(guān)堪用等。三星稱，7nm EUV若最終成行，將被證明是成本更優(yōu)的方案。
2018-06-22 15:53:454004 傳三星電子（Samsung Electronics）啟動采用極紫外光（EUV）微影設(shè)備的DRAM生產(chǎn)研發(fā)，雖然三星目標(biāo)2020年前量產(chǎn)16納米DRAM，不過也有可能先推出17納米制程產(chǎn)品。
2018-08-17 17:07:22943 過DRAM在進(jìn)入1Ynm節(jié)點(diǎn)時就需要考慮EUV工藝了，實(shí)際上并沒有，包括三星在內(nèi)的三大DRAM巨頭都沒有很快使用EUV的打算，預(yù)計到1znm才會考慮，也就是在10nm級左右。不過，美光認(rèn)為1α及1β工藝上依然都不需要EUV光刻工藝。
2018-08-20 17:41:491479 三星在其位于韓國華城的Fab S3生產(chǎn)7LPP EUV芯片。該公司每天可以在其ASML Twinscan NXE：3400B EUVL步進(jìn)掃描系統(tǒng)和每個280 W光源上處理1500個晶圓。三星沒有
2018-10-22 16:31:145577 就在臺積電與三星在邏輯芯片制程技術(shù)逐漸導(dǎo)入EUV技術(shù)之后，存儲器產(chǎn)業(yè)也將追隨。也就是全球存儲器龍頭三星在未來1Y納米制程的DRAM存儲器芯片生產(chǎn)上，也在研究導(dǎo)入EUV技術(shù)。而除了三星之外，韓國另一家
2018-10-29 17:03:244026 11月12日消息，SK Hynix（SK海力士）宣布研發(fā)完成基于1Ynm工藝的8Gb（1GB）容量DDR4 DRAM芯片。
2018-11-13 09:50:358288 在當(dāng)前全球晶圓制造的先進(jìn)制程領(lǐng)域中，只剩下臺積電、三星以及英特爾可以一較高下。三星雖然早在 2018 年 10 月份就已經(jīng)宣布量產(chǎn) 7 納米 EUV 制程，但實(shí)際情況并非如此。因?yàn)榫瓦B三星自己
2019-04-03 17:21:043414 在 7 納米制程節(jié)點(diǎn)上，雖然三星宣稱時程上領(lǐng)先臺積電，而且選擇直接進(jìn)入 EUV 技術(shù)時代，不過實(shí)際進(jìn)度卻非如此，也使得之前自家的 Exynos 9820 處理器都沒趕上 7 納米 EUV 制程。不過
2019-04-12 16:48:423887 實(shí)現(xiàn)更小面積的芯片和超低功耗，并已準(zhǔn)備好為客戶提供樣品，再次彰顯了其在晶圓代工領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位。此前，三星已實(shí)現(xiàn)7nm工藝的批量生產(chǎn)和客戶定制的6nm工藝的產(chǎn)品流片(Tape-out)，并將于4月份內(nèi)實(shí)現(xiàn)7nm的出貨。 建設(shè)中的華城EUV廠鳥瞰圖(截止2019年3月) 據(jù)悉，與其第一代
2019-04-18 20:48:54636 由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺提升到今年的預(yù)計30臺，顯然促使臺積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:038537 SK海力士近日宣布，將在提高第一代10nm級工藝(1xnm) DRAM內(nèi)存芯片產(chǎn)能的同時，今年下半年開始銷售基于第二代10nm級工藝(1ynm)的內(nèi)存芯片，并為下代內(nèi)存做好準(zhǔn)備。SK海力士首款
2019-05-14 10:40:003315 通過使用三星7nm EUV工藝代替臺積電的7nm工藝，Nvidia可能能夠獲得更多供應(yīng)。
2019-06-10 09:06:127000 繼臺積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進(jìn)邏輯制程導(dǎo)入極紫外光（EUV）微影技術(shù)后，同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估采用EUV技術(shù)量產(chǎn)。三星電子今年第四季將開始利用EUV技術(shù)生產(chǎn)1z納米DRAM，SK海力士及美光預(yù)期會在1α納米或1β納米評估導(dǎo)入EUV技術(shù)。
2019-06-18 17:20:313118 DRAM廠商在面對DRAM價格不斷下跌的困境下，已經(jīng)在考慮導(dǎo)入EUV技術(shù)用于制造DRAM，主要目的是為了降低成本。
2019-06-21 09:10:012629 根據(jù)國外媒體報導(dǎo)，曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價格直直落，短期看不到止跌訊號的情況下，也頂不住生產(chǎn)成本的壓力，開始考量導(dǎo)入EUV技術(shù)，以降低生產(chǎn)成本。南韓三星將在2019 年底前正式導(dǎo)入。
2019-06-21 10:13:344262 日前三星在韓國又舉行了新一輪晶圓代工制造論壇會議，超過500多名無晶圓廠芯片客戶參會，負(fù)責(zé)晶圓代工業(yè)務(wù)的三星副總裁Jung Eun-seung表示，三星今年9月份將完成韓國華城的7nm EUV工藝生產(chǎn)線，明年1月份量產(chǎn)。
2019-07-10 15:44:043582 DRAM制造商采用EUVL工具很可能與邏輯生產(chǎn)商（臺積電，三星代工（邏輯芯片的合約制造商，而不是DRAM制造商）的采用類似）：最初的EUV設(shè)備將僅用于幾層，隨著工藝節(jié)點(diǎn)的增加，層數(shù)逐漸增加。ASML估計，對于DRAM，一個EUV層每月需要每100，000個晶圓啟動1.5到2個EUV系統(tǒng)。
2019-08-27 10:36:134037 目前，三星7nm EUV技術(shù)已經(jīng)量產(chǎn)，在2019下半年將完成的韓國華城7nm EUV工藝生產(chǎn)線，將在2020年1月份量產(chǎn)，5nm制程也計劃在2020年上半年量產(chǎn)，3nm制程預(yù)計在2021年進(jìn)入量產(chǎn)，正在不斷趕上臺積電。
2019-11-14 16:03:493160 近些年來EUV光刻這個詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473867 在開發(fā)5nm制程技術(shù)僅一年之后，三星就開始了 5nm EUV（極紫外）生產(chǎn)線的建設(shè)。三星公司希望在2030年之前擊敗臺積電，并成為半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的領(lǐng)導(dǎo)者。
2020-03-12 14:30:362526 當(dāng)前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV（極紫外光刻）工藝被三星率先用到了DRAM內(nèi)存顆粒的生產(chǎn)中。
2020-03-25 15:40:482409 據(jù)ZDnet報道，三星宣布，已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
2020-03-25 16:24:393360 三星電子（Samsung Electronics）今天宣布，已經(jīng)出貨100萬業(yè)界首款10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組。新的基于EUV的DRAM模塊已經(jīng)完成了全球客戶評估，并將為在高端PC、移動終端、企業(yè)級服務(wù)器等等應(yīng)用領(lǐng)域開啟新大門。
2020-03-25 16:53:572848 韓國三星電子于25日宣布,已經(jīng)成功出貨100 萬個極紫外光刻技術(shù)(EUV)生產(chǎn)的業(yè)界首款10nm級DDR4 DRAM 模組,將為高端PC、移動設(shè)備、企業(yè)服務(wù)器和數(shù)據(jù)中心應(yīng)用等提供更先進(jìn)EUV制程技術(shù)產(chǎn)品,開啟新里程碑。
2020-03-29 14:39:282880 
2020年3月25日，三星電子（Samsung Electronics）公開透露，在半導(dǎo)體生產(chǎn)的主要工序中首次采用了新一代“EUV（極紫外線）”光刻設(shè)備的量產(chǎn)線。成為在半導(dǎo)體存儲芯片領(lǐng)域，全球首家使用EUV光刻設(shè)備。
2020-03-30 15:40:133914 電子DRAM芯片產(chǎn)品與技術(shù)執(zhí)行副總裁指出，隨著以EUV技術(shù)所生產(chǎn)出的新型DRAM芯片量產(chǎn)，展示著三星對提供革命性的DRAM芯片解決方案以支援全球IT客戶需求的承諾。這項(xiàng)重大進(jìn)展也說明了三星將如何透過即時開發(fā)高端制程技術(shù)來生產(chǎn)高端存儲器芯片市場的下一代產(chǎn)品，繼續(xù)
2020-04-03 15:47:511320 EUV，依靠現(xiàn)有的DUV（深紫外光刻）是玩不轉(zhuǎn)的。 有意思的是，三星最近竟然將EUV與相對上古的10nm工藝結(jié)合，用于量產(chǎn)旗下首批16Gb容量的LPDDR5內(nèi)存芯片。 據(jù)悉，三星的新一代內(nèi)存芯片是基于第三代10nm級（1z）工藝打造，請注意16Gb容量的后綴，是Gb而不是GB，16Gb對應(yīng)的其實(shí)是
2020-09-01 14:00:293544 。 市調(diào)機(jī)構(gòu)集邦科技預(yù)計，明年動態(tài)隨機(jī)存取存儲器（DRAM）可能跨入 EUV 世代，將由三星搶先導(dǎo)入 EUV 技術(shù)，以提升成本結(jié)構(gòu)與生產(chǎn)效率。 據(jù)臺媒指出，徐國晉 7 日接受采訪時表示，美光目前采用浸潤式設(shè)備，配合其他制程可以達(dá)到一樣的效果，并無采用 EUV 計劃。
2020-10-12 09:36:182072 據(jù)悉，ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商，年產(chǎn)量為40余臺，臺積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機(jī)的價格昂貴，每臺要價約1.3億美元，由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備，臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:522542 。媒體稱，臺積電采購的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過30臺，三星累計采購的EUV光刻機(jī)不到20臺。 圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)，一直不缺話題。 比如，一臺EUV光刻機(jī)賣多少錢？誰買走了這些EUV光刻機(jī)？大陸廠商還能買到光刻機(jī)嗎？為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部？ 上面這
2020-10-19 12:02:4910752 
根據(jù)韓國媒體《BusinessKorea》的報道，日前三星電子副董事長李在镕前往荷蘭拜訪光刻機(jī)大廠ASML，其目的就是希望ASML的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購買的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。
2020-10-24 09:37:303414 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:212202 ，三星需要EUV光刻設(shè)備來追趕已經(jīng)實(shí)現(xiàn)5nm量產(chǎn)的臺積電。ASML是世界上唯一的EUV設(shè)備供應(yīng)商，三星打算在正在建設(shè)的平澤2號工廠和正在擴(kuò)建的華城V1線中安裝EUV設(shè)備。 其中，平澤2號工廠于2020年5月開始了新工藝線的建設(shè)，計劃投資約10萬億韓元（約合88億美元），于
2020-10-30 14:13:081749 三星電子李在镕副會長于10月13日緊急訪問了荷蘭的半導(dǎo)體設(shè)備廠家——ASML，并與ASML的CEO Peter Wennink先生、CTO Martin van den Brink先生進(jìn)行了會談，且
2020-11-02 12:48:482381 
1080處理器是三星首款基于最新的5nm EUV FinFET工藝制造的處理器，進(jìn)一步提高設(shè)備的電源效率和性能。 三星Exynos在11月12日在上海舉行首場國內(nèi)線下發(fā)布會；據(jù)介紹，vivo將首發(fā)搭載
2020-11-12 18:13:204092 在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm之后，EUV光刻機(jī)就成為兵家必備大殺器了，全球也只有ASML公司能生產(chǎn)，單價達(dá)到10億人民幣一臺。不過在EUV技術(shù)上，ASML還真不一定就是第一，專利比三星還少。
2020-11-17 09:33:371816 目前，EUV光刻機(jī)的部署安裝主要在臺積電、三星的晶圓代工廠。不過，內(nèi)存廠商們也開始著手上馬了。
2020-11-27 09:09:092022 據(jù)韓國媒體businesskorea報道，三星電子正在尋求加強(qiáng)與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML的技術(shù)和投資合作。 上周，包括首席執(zhí)行官Peter Burnink在內(nèi)的ASML高管參觀了三星電子的半導(dǎo)體
2020-12-02 10:06:101953 三星電子近期為爭搶極紫外光（EUV）設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML。繼三星電子副會長李在镕（Lee Jae-yong）10月親自赴荷蘭拜會ASML執(zhí)行長Peter Wennink后，又再度傳出
2020-12-02 15:25:392343 更多訣竅，領(lǐng)先對手1到2年。 據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本，并提高性能。 盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過少對
2020-12-04 18:26:542674 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。
2020-12-05 09:14:061835 根據(jù)韓國媒體《Etnews》報導(dǎo)指出，目前全球3大DRAM存儲器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機(jī)的美商美光（Micron），因日前招聘網(wǎng)站開始征求EUV工程師，揭露美光也在進(jìn)行EUV運(yùn)用于DRAM先進(jìn)制程，準(zhǔn)備與韓國三星、SK海力士競爭
2020-12-25 14:33:101953 美國美光科技開始提速
EUV DRAM。加入到
三星電子、SK海力士等全球第一、第二
EUV廠商選擇的
EUV陣營后，后續(xù)
EUV競爭或?qū)⒏鼮榧ち摇?/div>
2020-12-25 14:43:132324 月產(chǎn)量約50萬個的大型DRAM生產(chǎn)線，將月產(chǎn)最大不超過1萬個的工廠暫時用于做EUV的量產(chǎn)“練習(xí)”。
實(shí)際上，有許多報道稱，三星正在將EUV應(yīng)用到最先進(jìn)的DRAM生產(chǎn)，三星本身也在2020年5月20日
2021-01-02 10:21:007394 近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造
2021-01-16 09:43:113120 近期三星為爭搶EUV設(shè)備，高層頻頻傳出密訪ASML，EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV，大家首先想到的就是ASML，ASML并不是一個家喻戶曉的名字，但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器，在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在，可以說，得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 09:44:472694 經(jīng)過幾個月的等待，我們終于看到三星電子將極紫外（EUV）光刻技術(shù)應(yīng)用于D1z DRAM的大規(guī)模量產(chǎn)。
2021-02-21 09:20:363744 
三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:412409 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 10:13:052369 因此除了臺積電、三星及英特爾等晶圓廠爭搶EUV，后續(xù)包含美光、SK海力士也需要大量EUV設(shè)備。乘著5G普及的“順風(fēng)”，半導(dǎo)體微縮化需求逐步高漲，半導(dǎo)體廠家加速導(dǎo)入EUV，EUV設(shè)備成為炙手可熱的產(chǎn)品。
2021-05-18 09:49:512713 
，建設(shè)的還將是采用極紫外光刻機(jī)（EUV）代工芯片的半導(dǎo)體工廠。 同此前韓國媒體在報道中提到的一樣，三星電子決定在得克薩斯州建設(shè)的這一座工廠，將在今年三季度動工，2024 年投入運(yùn)營。 在新建工廠的預(yù)算方面，外媒稱三星電子
2021-06-24 16:09:31640 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:203215 
媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚，再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造，而本來EUV光刻機(jī)就稀少，因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限，并且前段時間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜，因
2022-06-07 14:18:041761 EUV 光刻技術(shù)被視為先進(jìn)半導(dǎo)體制造的最大瓶頸，但這些價值超過 1.5 億美元的工具是沒有光掩模的paperweights。一個恰當(dāng)?shù)谋扔魇牵庋谀？梢员徽J(rèn)為是光刻工具對芯片層進(jìn)行圖案化所需的物理模板。
2022-08-26 10:49:471546 大多數(shù)人沒有意識到芯片制造是國家經(jīng)濟(jì)的核心。通過閱讀您的書，EUV 的開發(fā)過程始于美國的英特爾，然后完全脫離了英特爾。一家荷蘭公司如何擁有這項(xiàng)關(guān)鍵的芯片制造技術(shù)？
2023-02-15 10:34:061465 需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:374919 EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:561198 三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:022010 
據(jù)報導(dǎo)，三星已主要客戶的部分先進(jìn) EUV 代工生產(chǎn)在線導(dǎo)入 EUV 光罩護(hù)膜。雖然三星也在 DRAM 生產(chǎn)線中采用 EUV 制程，但考慮到生產(chǎn)率和成本，該公司認(rèn)為即使沒有光罩護(hù)膜也可以進(jìn)行內(nèi)存量產(chǎn)。
2023-12-05 15:09:011436 美光近期發(fā)布公告，將斥資45至55億美元在日本廣島建設(shè)DRAM芯片制造工廠，以引入頂尖EUV設(shè)備，預(yù)計最早于2027年末實(shí)現(xiàn)先進(jìn)DRAM量產(chǎn)。
2024-05-28 16:38:401922 在存儲芯片領(lǐng)域，技術(shù)的每一次革新都牽動著行業(yè)的脈搏。近日，存儲芯片大廠美光科技在公布其2024財年第三財季財報的同時，也宣布了一個令人振奮的消息——該公司正在其位于日本廣島的Fab15工廠試產(chǎn)基于極紫外（EUV）光刻技術(shù)的1γ（1-gamma）DRAM，標(biāo)志著美光在DRAM制造領(lǐng)域邁出了重要的一步。
2024-06-29 09:26:061438 1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī)，加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道，三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其首款High NA EUV（極紫外）光刻機(jī)設(shè)備，這標(biāo)志著這家韓國
2024-10-31 10:56:061494 據(jù)DigiTimes報道，三星電子對重新設(shè)計其第五代10nm級DRAM（1b DRAM）的報道予以否認(rèn)。 此前，ETNews曾有報道稱，三星電子內(nèi)部為解決12nm級DRAM內(nèi)存產(chǎn)品面臨的良率和性能
2025-01-23 10:04:151361 了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:006314 已全部加載完成
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