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電子發(fā)燒友網(wǎng)>存儲(chǔ)技術(shù)>三星悄悄引入EUV,大量投產(chǎn)使用EUV 1ynm制造的DRAM芯片

三星悄悄引入EUV,大量投產(chǎn)使用EUV 1ynm制造的DRAM芯片

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對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言,EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在,為了在未來(lái)的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì),臺(tái)積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購(gòu)置EUV光刻機(jī)。 ? 然而,當(dāng)這些來(lái)自
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臺(tái)積電PK三星7納米制程 EUV成為關(guān)鍵

“7納米是很重要的節(jié)點(diǎn),是生產(chǎn)工藝第一次轉(zhuǎn)向EUV的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。三星和臺(tái)積電都宣布了將采用EUV(極紫外光微影)技術(shù)在7納米,而EUV是摩爾定律能夠進(jìn)一步延續(xù)到5納米以下的關(guān)鍵?!?Gartner(中國(guó)
2017-01-19 10:15:491397

三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后,臺(tái)積電緊跟步伐!

三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后,讓EUV輸出率獲得快速提升,臺(tái)積電決定在7nm強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)定案,5nm才決定全數(shù)導(dǎo)入。
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3月25日消息 三星電子(Samsung Electronics)宣布,已經(jīng)出貨100萬(wàn)業(yè)界首款10nm EUV級(jí)(D1x)DDR4 DRAM模組。新的基于EUVDRAM模塊已經(jīng)完成了全球客戶評(píng)估,并將為在高端PC、移動(dòng)終端、企業(yè)級(jí)服務(wù)器等等應(yīng)用領(lǐng)域開(kāi)啟新大門。
2020-03-26 09:12:563600

三星和SK海力士在DRAM生產(chǎn)導(dǎo)入EUV,美光不跟進(jìn)

日前,據(jù)韓國(guó)媒體報(bào)道,三星電子和SK海力士都將在DRAM生產(chǎn)中導(dǎo)入EUV技術(shù),以建立更高的技術(shù)壁壘。對(duì)此,美光(Micron)企業(yè)副總裁、中國(guó)臺(tái)灣美光董事長(zhǎng)徐國(guó)晉表示,美光不打算跟進(jìn),目前并無(wú)采用 EUV 計(jì)劃。
2020-10-09 10:34:452136

用上EUV光刻機(jī) SK海力士將于明年下半年量產(chǎn)第四代(1a nm)DRAM

海力士總裁李石熙日前表示,該公司計(jì)劃將于明年下半年開(kāi)始在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)第四代(1a nm)DRAM產(chǎn)品。 李石熙表示M16工廠將于今年底建成,明年上半年開(kāi)始引入制造設(shè)備,目前實(shí)驗(yàn)室正在進(jìn)行準(zhǔn)備工作,預(yù)計(jì)明年開(kāi)始量產(chǎn)。 對(duì)內(nèi)存來(lái)說(shuō),它跟CPU邏輯工
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沒(méi)有EUV設(shè)備的中國(guó)芯片制造業(yè)

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三星和SK海力士都已實(shí)現(xiàn),EUV DRAM 的壓力來(lái)到美光這邊?

。 ? 圖源:SK海力士官網(wǎng) ? SK海力士將這一進(jìn)展定義為:意義非凡。 ? 激進(jìn)的三星和SK海力士 在談?wù)?b class="flag-6" style="color: red">EUV DRAM是否非凡之前,我們先了解一些關(guān)聯(lián)技術(shù)。從原理上說(shuō),光刻技術(shù)就是利用光化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法將掩模板上的圖案?jìng)鬟f到晶圓的工藝技術(shù)。近半個(gè)多世紀(jì),半導(dǎo)
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2021-12-01 10:07:4110988

日本的EUV***引進(jìn)之路

水平。 ? 美光的1γ節(jié)點(diǎn) ? 在今年五月,美光宣布將在日本引入EUV光刻機(jī),用于開(kāi)發(fā)下一代DRAM,基于最先進(jìn)的1γ節(jié)點(diǎn)。此消息一出,美光也就成為第一個(gè)為日本引入EUV光刻機(jī)的企業(yè),美光計(jì)劃在未來(lái)幾年內(nèi),為位于廣島的設(shè)施投資5000億日元持續(xù)
2023-10-10 01:13:001438

DRAM技術(shù)或迎大轉(zhuǎn)彎,三星、海力士擱置擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目

`這幾年以來(lái),國(guó)內(nèi)巨頭都在花大力氣研發(fā)內(nèi)存,以期打破壟斷,尤其是三星的壟斷。就移動(dòng)DRAM而言,三星占了全球80%的份額,成為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的焦點(diǎn)。日前,三星一反常態(tài),放緩了存儲(chǔ)器半導(dǎo)體業(yè)務(wù)的擴(kuò)張
2018-10-12 14:46:09

EUV熱潮不斷 中國(guó)如何推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展?

ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)(EUV)的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44

三星位于西安的半導(dǎo)體工廠正式投產(chǎn)

三星在第個(gè)國(guó)家建設(shè)相關(guān)工廠。對(duì)在中國(guó)設(shè)立生產(chǎn)基地的原因,三星方面稱,“中國(guó)IT領(lǐng)域非?;钴S,全世界V-NAND芯片有一半銷量在中國(guó)消化。在西安投產(chǎn)后,我們將就地供應(yīng),希望獲得好的成績(jī)”?! ‰m然韓國(guó)
2014-05-14 15:27:09

三星宣布:DRAM工藝可達(dá)10nm

三星電子近日在國(guó)際學(xué)會(huì)“IEDM 2015”上就20nm工藝的DRAM開(kāi)發(fā)發(fā)表了演講。演講中稱,三星此次試制出了20nm工藝的DRAM,并表示可以“采用同樣的方法,達(dá)到10nm工藝”。 國(guó)際電子器件
2015-12-14 13:45:01

三星布陣Asian Edge 第一島鏈再成科技最前線

解決方案,在未來(lái)的GDDR 6 DRAM、LPDDR 5 Mobile DRAM與邏輯芯片的封裝上,都非常關(guān)鍵。顯然臺(tái)積電與三星的戰(zhàn)火,在晶圓制造之外,已經(jīng)延燒到封測(cè)技術(shù)上。三星研發(fā)投入略顯不足據(jù)IC
2018-12-25 14:31:36

三星手機(jī)RFID讀取芯片

三星宣布將開(kāi)發(fā)手持式裝置用的RFID(radio frequency identification)讀取芯片,能讓使用者透過(guò)手機(jī)得知產(chǎn)品和服務(wù)信息,但三星并未透露產(chǎn)品何時(shí)上市。 三星指出,RFID
2019-07-04 07:26:16

三星電子行業(yè)巨頭成長(zhǎng)史

的半導(dǎo)體封裝。同年,三星電子成為世界第一個(gè)擁有4-GB半導(dǎo)體處理生產(chǎn)技術(shù)的廠商 1999年7月三星電子世界第一個(gè)1GDDRDRAM芯片實(shí)現(xiàn)商業(yè)化,并引入世界最快的3DGraphics圖形卡專用
2019-04-24 17:17:53

大量回收三星ic

三星ic,大量求購(gòu)三星ic,帝歐還長(zhǎng)期回收ssd固態(tài)硬盤,回收服務(wù)器內(nèi)存條,回收硬盤,回收cpu,回收芯片,回收傳感器,收購(gòu)連接器,收購(gòu)鉭電容,回收sd卡,收購(gòu)tf卡?;厥展S庫(kù)存ic,大量收購(gòu)工廠庫(kù)存
2020-12-14 16:00:38

大量回收三星高通CPU

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2020-10-31 15:48:52

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2021-04-14 19:04:16

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2021-03-10 17:45:41

專業(yè)回收三星ic,高價(jià)收購(gòu)三星ic

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2021-05-28 19:17:34

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2021-09-03 19:23:00

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光刻機(jī)工藝的原理及設(shè)備

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分析:三星芯片業(yè)務(wù)助推Q3利潤(rùn)創(chuàng)新高

對(duì)DRAM芯片的強(qiáng)勁需求將繼續(xù)超過(guò)供應(yīng),因三星和第二大記憶體芯片廠商SK海力士的新廠料在2019年前不會(huì)投產(chǎn);此外,截至9月NAND閃存的需求則連續(xù)第六季超過(guò)供應(yīng)。供蘋果新手機(jī)使用的有機(jī)發(fā)光二極體(OLED)面板的銷售增長(zhǎng),也支撐了第四季獲利創(chuàng)紀(jì)錄新高的預(yù)期。
2017-10-13 16:56:04

半導(dǎo)體制造企業(yè)未來(lái)分析

/5nm等邏輯工藝,還會(huì)用在DRAM內(nèi)存芯片生產(chǎn)上。 早前,三星還宣布,其位于華城的V1工廠已經(jīng)開(kāi)始量產(chǎn)。據(jù)悉,V1廠為三星第一條專門生產(chǎn)EUV技術(shù)的生產(chǎn)線,該工廠已經(jīng)開(kāi)始量產(chǎn)的產(chǎn)品為7nm 7LPP
2020-02-27 10:42:16

華為三星蘋果高通的差異

華為三星蘋果高通的差異買IP做集成不宜包裝為掌握核心科技
2021-01-28 07:21:57

同樣1ynm制程的LPDDR4X和LPDDR5在性能上兩者究竟有多大區(qū)別?

LPDDR5究竟是什么?有什么特點(diǎn)?同樣1ynm制程的LPDDR4X和LPDDR5在性能上兩者究竟有多大區(qū)別?
2021-06-18 06:48:12

回收三星ic 收購(gòu)三星ic

年收購(gòu)電子芯片,收購(gòu)電子IC,收購(gòu)DDR ,收購(gòu)集成電路芯片,收購(gòu)內(nèi)存芯片,大量回收SDRAM、DRAM、SRAM、DDR內(nèi)存芯片系列,三星,現(xiàn)代,閃迪,金士頓,鎂光,東芝,南亞,爾必達(dá),華邦等各原裝品牌。帝
2021-08-20 19:11:25

回收三星指紋模組收購(gòu)三星手機(jī)指紋

回收三星指紋模組收購(gòu)三星手機(jī)指紋高價(jià)收購(gòu)指紋模組,長(zhǎng)期回指紋模組。深圳帝歐長(zhǎng)期收購(gòu)電子庫(kù)存,帝歐趙生***QQ1816233102/879821252郵箱dealic@163.com。本司大量收購(gòu)
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有沒(méi)有人使用過(guò)三星的flash芯片,問(wèn)題請(qǐng)教

三星的K9F1G08U0A nand flash芯片,手冊(cè)說(shuō)有Unique ID可以用,但是沒(méi)有說(shuō)明具體怎么操作。另外在其他三星nor flash芯片手冊(cè)中有看到OTP區(qū)域,可以來(lái)保存Unique
2017-03-21 09:22:02

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DNW軟件只能用于三星的ARM芯片嗎?
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請(qǐng)問(wèn)一下RK3399芯片啟動(dòng)需要像三星一樣的bl1

  請(qǐng)問(wèn)一下RK3399芯片啟動(dòng)需要像三星一樣的bl1嗎?求大神解答
2022-07-11 09:32:16

高價(jià)回收三星芯片,專業(yè)收購(gòu)三星芯片

高價(jià)回收三星芯片高價(jià)回收三星芯片,專業(yè)收購(gòu)三星芯片。深圳帝歐專業(yè)電子回收,高價(jià)收購(gòu)ic電子料。帝歐趙生***(同步微信),QQ:1816233102/764029970郵箱
2021-07-06 19:32:41

高價(jià)收購(gòu)三星字庫(kù)

回收三星字庫(kù),全國(guó)回收三星字庫(kù)。帝歐長(zhǎng)期回收ssd固態(tài)硬盤,回收服務(wù)器內(nèi)存條,回收硬盤,回收cpu,回收芯片,回收傳感器,收購(gòu)連接器,收購(gòu)鉭電容,回收sd卡,收購(gòu)tf卡。回收工廠庫(kù)存ic,大量收購(gòu)工廠
2021-02-23 17:54:12

三星電子在 EUV 曝光技術(shù)取得重大進(jìn)展

三星電子行業(yè)資訊
深圳市浮思特科技有限公司發(fā)布于 2023-12-05 17:16:29

高通與三星簽約,驍龍芯片將基于三星7nm EUV工藝打造

三星官網(wǎng)發(fā)布新聞稿,三星、高通宣布擴(kuò)大晶圓代工業(yè)務(wù)合作,包含高通下一代5G移動(dòng)芯片,將采用三星7納米LPP(Low-Power Plus)極紫外光(EUV)制程。 新聞稿指出,通過(guò)7納米LPP
2018-02-23 07:31:561279

極紫外(EUV)光刻新挑戰(zhàn),除了光刻膠還有啥?

。 GlobalFoundries、英特爾、三星和臺(tái)積電希望將EUV光刻技術(shù)加入到7nm和5nm生產(chǎn)中。但就像以前一樣,EUV由幾部分組件組成,在芯片制造商能夠引入之前,它們必須整合在一起。
2018-03-31 11:52:005861

EUV光刻技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)激烈,三星7納米EUV制程已完成新思科技物理認(rèn)證,臺(tái)積電緊追其后

EUV技術(shù)的7納米制程,直接上7納米LPP EUV制程技術(shù)的原因。如今,三星終于公布了7納米LPP制程已完成新思科技(Synopsys)物理認(rèn)證,意味著7納米EUV制程將可全球量產(chǎn)了。
2018-06-19 15:06:004522

美光表示:EUV光刻機(jī)在DRAM芯片制造上不是必須的,直到1α及1β工藝上都也不會(huì)用到它

今年臺(tái)積電、三星及Globalfoundries等公司都會(huì)量產(chǎn)7nm工藝,第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝,二代7nm才會(huì)上EUV光刻工藝,預(yù)計(jì)明年量產(chǎn)。那么存儲(chǔ)芯片行業(yè)何時(shí)會(huì)用上EUV
2018-06-07 14:49:006059

存儲(chǔ)芯片行業(yè)何時(shí)會(huì)用上EUV工藝?

美光CEO Sanjay Mehrotra日前在參加伯恩斯坦年度戰(zhàn)略決策會(huì)上回答了有關(guān)的工藝問(wèn)題,在EUV光刻工藝上,他認(rèn)為EUV光刻機(jī)在DRAM芯片制造上不是必須的,直到1α及1β工藝上都也不會(huì)用到它。
2018-06-08 14:29:075468

三星或?qū)⒂?b class="flag-6" style="color: red">EUV設(shè)備進(jìn)行DRAM研發(fā)生產(chǎn)

三星電子(Samsung Electronics)啟動(dòng)采用極紫外光(EUV)微影設(shè)備的DRAM生產(chǎn)研發(fā),雖然三星目標(biāo)2020年前量產(chǎn)16納米DRAM,不過(guò)也有可能先推出17納米制程產(chǎn)品。
2018-08-17 17:07:22709

EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn),2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了,這是EUV工藝研發(fā)三十年來(lái)的一個(gè)里程碑。不過(guò)EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn),目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒(méi)有
2018-10-30 16:28:403376

三星與SK海力士正在研發(fā)EUV技術(shù) 未來(lái)有機(jī)會(huì)藉此將生產(chǎn)DRAM的成本降低

就在臺(tái)積電與三星在邏輯芯片制程技術(shù)逐漸導(dǎo)入EUV技術(shù)之后,存儲(chǔ)器產(chǎn)業(yè)也將追隨。也就是全球存儲(chǔ)器龍頭三星在未來(lái)1Y納米制程的DRAM存儲(chǔ)器芯片生產(chǎn)上,也在研究導(dǎo)入EUV技術(shù)。而除了三星之外,韓國(guó)另一家
2018-10-29 17:03:243560

SK海力士研發(fā)完成基于1Ynm工藝的DDR4 DRAM芯片

11月12日消息,SK Hynix(SK海力士)宣布研發(fā)完成基于1Ynm工藝的8Gb(1GB)容量DDR4 DRAM芯片。
2018-11-13 09:50:353097

三星7納米EUV制程量產(chǎn)預(yù)計(jì)在2020年底前達(dá)成

在當(dāng)前全球晶圓制造的先進(jìn)制程領(lǐng)域中,只剩下臺(tái)積電、三星以及英特爾可以一較高下。三星雖然早在 2018 年 10 月份就已經(jīng)宣布量產(chǎn) 7 納米 EUV 制程,但實(shí)際情況并非如此。因?yàn)榫瓦B三星自己
2019-04-03 17:21:042839

臺(tái)積電將包攬ASML這批EUV光刻機(jī)中的18臺(tái)

由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV,同時(shí)ASML(荷蘭阿斯麥)將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái),顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:037913

SK海力士跨向1ynm內(nèi)存時(shí)代 提高DRAM內(nèi)存芯片產(chǎn)能

SK海力士近日宣布,將在提高第一代10nm級(jí)工藝(1xnm) DRAM內(nèi)存芯片產(chǎn)能的同時(shí),今年下半年開(kāi)始銷售基于第二代10nm級(jí)工藝(1ynm)的內(nèi)存芯片,并為下代內(nèi)存做好準(zhǔn)備。SK海力士
2019-05-14 10:40:002651

2020年投產(chǎn)的安培架構(gòu)GPU上,英偉達(dá)將改用三星的7nm EUV工藝進(jìn)行生產(chǎn)

通過(guò)使用三星7nm EUV工藝代替臺(tái)積電的7nm工藝,Nvidia可能能夠獲得更多供應(yīng)。
2019-06-10 09:06:126225

多家DRAM廠商開(kāi)始評(píng)估采用EUV技術(shù)量產(chǎn)

繼臺(tái)積電、三星晶圓代工、英特爾等國(guó)際大廠在先進(jìn)邏輯制程導(dǎo)入極紫外光(EUV)微影技術(shù)后,同樣面臨制程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開(kāi)始評(píng)估采用EUV技術(shù)量產(chǎn)。三星電子今年第四季將開(kāi)始利用EUV技術(shù)生產(chǎn)1z納米DRAM,SK海力士及美光預(yù)期會(huì)在1α納米或1β納米評(píng)估導(dǎo)入EUV技術(shù)。
2019-06-18 17:20:312438

DRAM廠將陸續(xù)導(dǎo)入EUV技術(shù)

DRAM廠商在面對(duì)DRAM價(jià)格不斷下跌的困境下,已經(jīng)在考慮導(dǎo)入EUV技術(shù)用于制造DRAM,主要目的是為了降低成本。
2019-06-21 09:10:012047

DRAM開(kāi)始進(jìn)入EUV時(shí)代?

根據(jù)國(guó)外媒體報(bào)導(dǎo),曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價(jià)格直直落,短期看不到止跌訊號(hào)的情況下,也頂不住生產(chǎn)成本的壓力,開(kāi)始考量導(dǎo)入EUV技術(shù),以降低生產(chǎn)成本。南韓三星將在2019 年底前正式導(dǎo)入。
2019-06-21 10:13:343319

關(guān)于美光DRAM路線圖分析

DRAM制造商采用EUVL工具很可能與邏輯生產(chǎn)商(臺(tái)積電,三星代工(邏輯芯片的合約制造商,而不是DRAM制造商)的采用類似):最初的EUV設(shè)備將僅用于幾層,隨著工藝節(jié)點(diǎn)的增加,層數(shù)逐漸增加。ASML估計(jì),對(duì)于DRAM,一個(gè)EUV層每月需要每100,000個(gè)晶圓啟動(dòng)1.5到2個(gè)EUV系統(tǒng)。
2019-08-27 10:36:133458

半導(dǎo)體巨頭為什么追捧EUV光刻機(jī)

近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149

EUV光刻機(jī)到底是什么?為什么這么貴?

近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多,三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺(tái)積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝,蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308

三星宣布全面導(dǎo)入EUV 預(yù)計(jì)12英寸晶圓生產(chǎn)率將翻番

當(dāng)前在芯片制造中最先進(jìn)的EUV(極紫外光刻)工藝被三星率先用到了DRAM內(nèi)存顆粒的生產(chǎn)中。
2020-03-25 15:40:482003

三星EUV技術(shù)成功應(yīng)用于DRAM生產(chǎn)

據(jù)ZDnet報(bào)道,三星宣布,已成功將EUV技術(shù)應(yīng)用于DRAM的生產(chǎn)中。
2020-03-25 16:24:392783

出貨100萬(wàn) 三星業(yè)界首款EUV DRAM推出

三星電子(Samsung Electronics)今天宣布,已經(jīng)出貨100萬(wàn)業(yè)界首款10nm EUV級(jí)(D1x)DDR4 DRAM模組。新的基于EUVDRAM模塊已經(jīng)完成了全球客戶評(píng)估,并將為在高端PC、移動(dòng)終端、企業(yè)級(jí)服務(wù)器等等應(yīng)用領(lǐng)域開(kāi)啟新大門。
2020-03-25 16:53:572345

三星EUV技術(shù)應(yīng)用于新型DRAM產(chǎn)品中,并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)

韓國(guó)三星電子于25日宣布,已經(jīng)成功出貨100 萬(wàn)個(gè)極紫外光刻技術(shù)(EUV)生產(chǎn)的業(yè)界首款10nm級(jí)DDR4 DRAM 模組,將為高端PC、移動(dòng)設(shè)備、企業(yè)服務(wù)器和數(shù)據(jù)中心應(yīng)用等提供更先進(jìn)EUV制程技術(shù)產(chǎn)品,開(kāi)啟新里程碑。
2020-03-29 14:39:282443

三星成首家在DRAM生產(chǎn)采用EUV技術(shù)的存儲(chǔ)器供應(yīng)商

電子DRAM芯片產(chǎn)品與技術(shù)執(zhí)行副總裁指出,隨著以EUV技術(shù)所生產(chǎn)出的新型DRAM芯片量產(chǎn),展示著三星對(duì)提供革命性的DRAM芯片解決方案以支援全球IT客戶需求的承諾。這項(xiàng)重大進(jìn)展也說(shuō)明了三星將如何透過(guò)即時(shí)開(kāi)發(fā)高端制程技術(shù)來(lái)生產(chǎn)高端存儲(chǔ)器芯片市場(chǎng)的下一代產(chǎn)品,繼續(xù)
2020-04-03 15:47:511009

EUV技術(shù)將為芯片制造設(shè)備市場(chǎng)帶來(lái)近4000億收入

芯片加工精度取決于光刻機(jī)光線的波長(zhǎng),光線波長(zhǎng)越小,芯片精度越高。隨著摩爾定律發(fā)展,芯片制造邁進(jìn)10nm節(jié)點(diǎn),波長(zhǎng)13.4nm的EUV(極紫外光)就成為唯一的選擇。
2020-07-20 09:27:172241

三星EUV與10nm工藝結(jié)合推出LPDDR5內(nèi)存芯片

EUV,依靠現(xiàn)有的DUV(深紫外光刻)是玩不轉(zhuǎn)的。 有意思的是,三星最近竟然將EUV與相對(duì)上古的10nm工藝結(jié)合,用于量產(chǎn)旗下首批16Gb容量的LPDDR5內(nèi)存芯片。 據(jù)悉,三星的新一代內(nèi)存芯片是基于第三代10nm級(jí)(1z)工藝打造,請(qǐng)注意16Gb容量的后綴,是Gb而不是GB,16Gb對(duì)應(yīng)的其實(shí)是
2020-09-01 14:00:292234

美光聲明:目前并無(wú)采用三星EUV計(jì)劃

。 市調(diào)機(jī)構(gòu)集邦科技預(yù)計(jì),明年動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(DRAM)可能跨入 EUV 世代,將由三星搶先導(dǎo)入 EUV 技術(shù),以提升成本結(jié)構(gòu)與生產(chǎn)效率。 據(jù)臺(tái)媒指出,徐國(guó)晉 7 日接受采訪時(shí)表示,美光目前采用浸潤(rùn)式設(shè)備,配合其他制程可以達(dá)到一樣的效果,并無(wú)采用 EUV 計(jì)劃。
2020-10-12 09:36:181660

EUV光刻機(jī)還能賣給中國(guó)嗎?

。媒體稱,臺(tái)積電采購(gòu)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過(guò)30臺(tái),三星累計(jì)采購(gòu)的EUV光刻機(jī)不到20臺(tái)。 圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī),一直不缺話題。 比如,一臺(tái)EUV光刻機(jī)賣多少錢?誰(shuí)買走了這些EUV光刻機(jī)?大陸廠商還能買到光刻機(jī)嗎?為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部? 上面這
2020-10-19 12:02:499648

ASML的EUV光刻機(jī)已成臺(tái)積電未來(lái)發(fā)展的“逆鱗”

臺(tái)積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè),目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425

EUV光刻機(jī)加持,SK海力士宣布明年量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存

ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份,現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上,臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了,SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646

三星要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付9臺(tái)EUV光刻設(shè)備

據(jù)韓媒報(bào)道,三星副董事長(zhǎng)李在镕在訪問(wèn)荷蘭期間,在會(huì)議上要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付三星已購(gòu)買的9臺(tái)EUV光刻設(shè)備。 報(bào)道稱,ASML正在審查三星的要求,這部分EUV設(shè)備最早可于11月運(yùn)往韓國(guó)。 據(jù)悉
2020-10-30 14:13:081269

三星Exynos 1080處理器 5nm EUV FinFET工藝制造

1080處理器是三星首款基于最新的5nm EUV FinFET工藝制造的處理器,進(jìn)一步提高設(shè)備的電源效率和性能。 三星Exynos在11月12日在上海舉行首場(chǎng)國(guó)內(nèi)線下發(fā)布會(huì);據(jù)介紹,vivo將首發(fā)搭載
2020-11-12 18:13:203186

三星2021年將投產(chǎn)EUV工藝生產(chǎn)的內(nèi)存

目前,EUV光刻機(jī)的部署安裝主要在臺(tái)積電、三星的晶圓代工廠。不過(guò),內(nèi)存廠商們也開(kāi)始著手上馬了。
2020-11-27 09:09:091651

三星擴(kuò)大部署EUV光刻工藝

繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后,三星也坐不住了。 按照三星的說(shuō)法,自2014年以來(lái),EUV光刻參與的晶圓超過(guò)了400萬(wàn)片,公司積累了豐富的經(jīng)驗(yàn),也比其它廠商掌握
2020-12-04 18:26:542201

三星部署擴(kuò)展EUV光刻工藝,爭(zhēng)取提高性能

繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠均引入EUV光刻機(jī)后,三星也坐不住了。
2020-12-05 09:14:061454

消息稱美光或開(kāi)發(fā)EUV應(yīng)用技術(shù)

根據(jù)韓國(guó)媒體《Etnews》報(bào)導(dǎo)指出,目前全球3大DRAM存儲(chǔ)器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機(jī)的美商美光(Micron),因日前招聘網(wǎng)站開(kāi)始征求EUV工程師,揭露美光也在進(jìn)行EUV運(yùn)用于DRAM先進(jìn)制程,準(zhǔn)備與韓國(guó)三星、SK海力士競(jìng)爭(zhēng)
2020-12-25 14:33:101459

美光科技開(kāi)始提速EUV DRAM開(kāi)發(fā)速度

美國(guó)美光科技開(kāi)始提速EUV DRAM。加入到三星電子、SK海力士等全球第一、第二EUV廠商選擇的EUV陣營(yíng)后,后續(xù)EUV競(jìng)爭(zhēng)或?qū)⒏鼮榧ち摇?/div>
2020-12-25 14:43:131642

芯片制造與荷蘭ASML EUV光刻機(jī)息息相關(guān)

荷蘭ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)使用由激光產(chǎn)生,并通過(guò)巨型鏡子聚焦的極紫外(EUV)光束,在硅片上鋪設(shè)非常狹窄的電路。這能讓廠商制造更快、更強(qiáng)大的微處理器、內(nèi)存芯片和其他先進(jìn)元件。這些元件無(wú)論是對(duì)消費(fèi)類電子產(chǎn)品,還是對(duì)軍事應(yīng)用來(lái)說(shuō)都至關(guān)重要。
2021-01-08 10:25:322858

日本的EUV實(shí)力如何?

近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備,高層頻頻傳出密訪ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字,但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造
2021-01-16 09:43:112542

三星EUV設(shè)備將會(huì)出現(xiàn)再度升級(jí)

近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備,高層頻頻傳出密訪ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字,但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器,在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在,可以說(shuō),得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 09:44:472137

日本在EUV光刻機(jī)部件地位上不可忽略

近期三星為爭(zhēng)搶EUV設(shè)備,高層頻頻傳出密訪ASML,EUV的重要性早已不言而喻。提到EUV,大家首先想到的就是ASML,ASML并不是一個(gè)家喻戶曉的名字,但他卻是現(xiàn)代技術(shù)的關(guān)鍵。因?yàn)樗峁┝?b class="flag-6" style="color: red">制造半導(dǎo)體必不可少的“光刻”機(jī)器,在摩爾定律即將發(fā)展到盡頭的現(xiàn)在,可以說(shuō),得EUV者得先進(jìn)工藝。
2021-01-16 10:32:574386

三星1z納米EUV LPDDR5工藝規(guī)格搶先看

經(jīng)過(guò)幾個(gè)月的等待,我們終于看到三星電子將極紫外(EUV)光刻技術(shù)應(yīng)用于D1z DRAM的大規(guī)模量產(chǎn)。
2021-02-21 09:20:362660

三星積極向唯一EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單

三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:411757

三星砸430億韓元研發(fā)EUV光罩保護(hù)膜

三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠商ASML爭(zhēng)取訂單,另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 10:13:051665

廠商們“慌慌張張”,不過(guò)EUV幾臺(tái)

因此除了臺(tái)積電、三星及英特爾等晶圓廠爭(zhēng)搶EUV,后續(xù)包含美光、SK海力士也需要大量EUV設(shè)備。乘著5G普及的“順風(fēng)”,半導(dǎo)體微縮化需求逐步高漲,半導(dǎo)體廠家加速導(dǎo)入EUV,EUV設(shè)備成為炙手可熱的產(chǎn)品。
2021-05-18 09:49:512182

關(guān)于EUV光刻機(jī)的缺貨問(wèn)題

臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開(kāi)始應(yīng)用EUV光刻層了,并且在隨后的工藝迭代中,逐步增加半導(dǎo)體制造過(guò)程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077

三星董事李在镕親自拜訪ASML,只為爭(zhēng)取到EUV光刻機(jī)

媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚,再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造,而本來(lái)EUV光刻機(jī)就稀少,因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限,并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜,因
2022-06-07 14:18:041176

euv光刻機(jī)出現(xiàn)時(shí)間 ASML研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)

EUV光刻機(jī)是在2018年開(kāi)始出現(xiàn),并在2019年開(kāi)始大量交付,而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523

euv光刻機(jī)是哪個(gè)國(guó)家的

說(shuō)到芯片,估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么,但說(shuō)到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒(méi)有光刻機(jī)的話,就無(wú)法生產(chǎn)芯片,因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:276977

半導(dǎo)體制造EUV引入DRAM的計(jì)劃介紹

EUV 光刻技術(shù)被視為先進(jìn)半導(dǎo)體制造的最大瓶頸,但這些價(jià)值超過(guò) 1.5 億美元的工具是沒(méi)有光掩模的paperweights。一個(gè)恰當(dāng)?shù)谋扔魇?,光掩??梢员徽J(rèn)為是光刻工具對(duì)芯片層進(jìn)行圖案化所需的物理模板。
2022-08-26 10:49:47942

淺談EUV光刻的基礎(chǔ)知識(shí) EUV光刻如何制造芯片?

大多數(shù)人沒(méi)有意識(shí)到芯片制造是國(guó)家經(jīng)濟(jì)的核心。通過(guò)閱讀您的書(shū),EUV 的開(kāi)發(fā)過(guò)程始于美國(guó)的英特爾,然后完全脫離了英特爾。一家荷蘭公司如何擁有這項(xiàng)關(guān)鍵的芯片制造技術(shù)?
2023-02-15 10:34:06856

什么是EUV***?

需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比,EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別,從而實(shí)現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985

ASML的EUV***研發(fā)歷程

asml是euv技術(shù)開(kāi)發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊,也是全球市場(chǎng)占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年,asml推出了世界上第一個(gè)euv試制品,并于2016年推出了euv第一個(gè)商用顯卡制造機(jī)asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202

EUV薄膜容錯(cuò)成本高 成芯片良率的關(guān)鍵

近20年來(lái),EUV光源、EUV掩模和EUV光刻膠一直是EUV光刻的三大技術(shù)挑戰(zhàn)。
2023-09-14 09:45:12563

三星希望進(jìn)口更多ASML EUV***,5年內(nèi)新增50臺(tái)

EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分,占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜,因此ASML每年只能制造約60臺(tái),而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機(jī),包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目前,AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺(tái)積電購(gòu)買。
2023-11-22 16:46:56383

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝

三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579

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