10月15日，據(jù)國外媒體報(bào)道，目前全球頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML正在研發(fā)第三款EUV光刻機(jī)，并計(jì)劃于明年年中出貨。 從其所公布的信息來看，新款光刻機(jī)型號命名為TWINSCAN NXE:3600D
2020-10-17 05:02:00
4299 對于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來自
2022-07-22 07:49:003666 推動(dòng)科技進(jìn)步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會(huì)停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點(diǎn)將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機(jī)的ASML表示EUV工藝將會(huì)支持未來15年，部分客戶已經(jīng)在討論2030年的1.5nm工藝路線圖了。
2017-01-22 11:45:423754 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。 據(jù)報(bào)道，SK
2020-10-31 06:47:001778 光刻機(jī)引進(jìn)中國大陸。 ? 針對EUV光刻機(jī)進(jìn)廠可能延期的問題，在日前的韓國半導(dǎo)體工業(yè)協(xié)會(huì)30周年紀(jì)念活動(dòng)上，SK海力士CEO Seok-hee Lee（李錫熙）表示，正在與美方合作，進(jìn)展良好，EUV光刻技術(shù)已經(jīng)在韓國本土的DRAM產(chǎn)線上應(yīng)用，中國工廠還有充足的時(shí)間供斡
2021-11-24 09:28:345812 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4113656 盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機(jī)廠商尼康和佳能為例，他們就仍在
2022-11-24 01:57:007124 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:003525 水平。 ? 美光的1γ節(jié)點(diǎn) ? 在今年五月，美光宣布將在日本引入EUV光刻機(jī)，用于開發(fā)下一代DRAM，基于最先進(jìn)的1γ節(jié)點(diǎn)。此消息一出，美光也就成為第一個(gè)為日本引入EUV光刻機(jī)的企業(yè)，美光計(jì)劃在未來幾年內(nèi)，為位于廣島的設(shè)施投資5000億日元持續(xù)
2023-10-10 01:13:002603 水平，購買或者開發(fā)EUV光刻機(jī)是否必要？中國應(yīng)如何切實(shí)推進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)的發(fā)展？EUV面向7nm和5nm節(jié)點(diǎn)所謂極紫外光刻，是一種應(yīng)用于現(xiàn)代集成電路制造的光刻技術(shù)，它采用波長為10～14納米的極紫外光作為
2017-11-14 16:24:44
把被攝物體的影像復(fù)制到底片上。 而ASML光刻機(jī)在做的光刻，我們稱之為微影制程，原理是將高能雷射光穿過光罩（reticle），將光罩上的電路圖形透過聚光鏡（projectionlens），將影像縮小
2020-09-02 17:38:07
，光源是ArF（氟化氬）準(zhǔn)分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機(jī)，但是到了7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺積電都會(huì)在7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機(jī)作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報(bào)，目...
2021-07-29 09:36:46
光刻膠（光敏膠）進(jìn)行光刻，將圖形信息轉(zhuǎn)移到基片上，從而實(shí)現(xiàn)微細(xì)結(jié)構(gòu)的制造。光刻機(jī)的工作原理是利用光學(xué)系統(tǒng)將光線聚焦到光刻膠上，通過掩膜版（也稱為光刻掩膜）上的圖形
2023-07-07 11:46:07
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:594096 本文以光刻機(jī)為中心，主要介紹了光刻機(jī)的分類、光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成、光刻機(jī)的性能指標(biāo)、光刻機(jī)的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01166596 
EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示，250瓦的EUV光源也萬事俱備。公司2017年財(cái)報(bào)中也強(qiáng)調(diào)，其EUV光刻機(jī)滿足了125WPH（每小時(shí)生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008666 
時(shí)代開始（現(xiàn)在我們處于 10nm 時(shí)代），EUV 光刻機(jī)是絕對的戰(zhàn)略性設(shè)備，沒有它就會(huì)寸步難行。
在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)之后，制造難度越來越大，傳統(tǒng)的193nm紫外光刻機(jī)也難以為繼
2018-05-20 10:32:3714641 光刻機(jī)在DRAM芯片制造上不是必須的，直到1α及1β工藝上都也不會(huì)用到它。
在內(nèi)存工藝上，美光認(rèn)為1α及1β工藝上依然都不需要EUV光刻工藝，不過
2018-06-07 14:49:006864 會(huì)用上EUV工藝？在美光看來，EUV光刻工藝并不是DRAM芯片必須的，未來幾年內(nèi)都用不上，在新一代工藝上他們正在交由客戶驗(yàn)證1Y nm內(nèi)存芯片，未來還有1Z、1α及1β工藝
2018-06-08 14:29:076259 
10nm集成電路制造，業(yè)界已經(jīng)開始嘗試采用極紫外光刻機(jī)，再下一代產(chǎn)品高數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)目前正在研發(fā)當(dāng)中，預(yù)計(jì)未來2-3年有可能被開發(fā)出來，其可以支持5nm、3nm及以下的工藝制造。非關(guān)鍵層
2018-07-13 17:25:006042 光刻機(jī)，是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一，荷蘭ASML公司已經(jīng)成為全球光刻機(jī)市場的一哥，壟斷了高端光科技生產(chǎn)，在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域更是獨(dú)一份。
2018-07-19 16:52:003479 臺積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預(yù)計(jì)明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293872 達(dá)到理想狀態(tài)，EUV工藝還有很長的路要走。在現(xiàn)有的EUV之外，ASML與IMEC比利時(shí)微電子中心還達(dá)成了新的合作協(xié)議，雙方將共同研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，NA數(shù)值孔徑從現(xiàn)有的0.33提高到0.5，可以進(jìn)一步提升光刻工藝的微縮水平，制造出更小的晶體管。
2018-10-30 16:28:404245 試產(chǎn)了7nm EUV工藝，采用ASML的新式光刻機(jī)Twinscan NXE，完成了客戶芯片的流片工作，同時(shí)宣布5nm工藝將在2019年4月開始試產(chǎn)，量產(chǎn)則有望在2020年第二季度。
在7nm
2018-10-22 15:18:343209 根據(jù)國外媒體報(bào)導(dǎo)，曾表示目前制程技術(shù)還用不上EUV技術(shù)的各大DRAM廠在目前DRAM價(jià)格直直落，短期看不到止跌訊號的情況下，也頂不住生產(chǎn)成本的壓力，開始考量導(dǎo)入EUV技術(shù)，以降低生產(chǎn)成本。南韓三星將在2019 年底前正式導(dǎo)入。
2019-06-21 10:13:344262 格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機(jī)的爭奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠商未來在先進(jìn)工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
據(jù)韓媒報(bào)道稱，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，與現(xiàn)有光刻機(jī)相比，二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:397084 近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473867 近些年來EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4531024 據(jù)中國證券報(bào)報(bào)道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進(jìn)口了一臺大型光刻機(jī)，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴(kuò)充，并非外界所稱的EUV光刻機(jī)。
2020-03-07 10:55:145046 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:483419 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:195447 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機(jī)，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，我國高端的光刻機(jī)，基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0247311 我國的光刻機(jī)目前能做的只有90nm制程，而荷蘭的ASML 最新EUV工藝光刻機(jī)可以做到7nm制程、6nm制程、5nm制程，并且一臺頂級的光刻機(jī)需要上萬個(gè)零部件，需要不同國家的各個(gè)頂級部件，售價(jià)也高達(dá)7億人民幣。
2020-03-19 16:46:3823750 頂級光刻機(jī)有多難搞？ASML的光刻機(jī)，光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例，其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬個(gè)，比汽車零件精細(xì)數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3912919 作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機(jī)一直牽動(dòng)人心。事實(shí)上，制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。
2020-07-07 16:25:043383 根據(jù)所用光源改進(jìn)和工藝創(chuàng)新，光刻機(jī)經(jīng)歷了 5 代產(chǎn)品發(fā)展，每次光源的改進(jìn)都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。在技術(shù)節(jié)點(diǎn)的更新上，光刻機(jī)經(jīng)歷了兩次重大變革，在歷次變革中，ASML 都能搶占先機(jī)，最終奠定龍頭地位。
2020-08-03 17:04:423306 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機(jī)一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機(jī) 光刻機(jī)（Mask
2020-08-28 14:39:0415066 
芯片制程已經(jīng)推進(jìn)到了7nm以下，這其中最關(guān)鍵的核心設(shè)備就要數(shù)EUV光刻機(jī)了，目前全世界只有荷蘭ASML（阿斯麥）可以制造。
2020-09-28 16:31:472199 光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機(jī)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導(dǎo)體線路的線寬，同時(shí)也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:136909 
據(jù)悉，ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商，年產(chǎn)量為40余臺，臺積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機(jī)的價(jià)格昂貴，每臺要價(jià)約1.3億美元，由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備，臺積電與三星電子的競爭日益激烈。
2020-10-13 13:51:522542 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:055352 光刻機(jī)，在整個(gè)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設(shè)備，技術(shù)難度極高。在全球光刻機(jī)市場，日本的尼康、佳能，和荷蘭的ASML，就占據(jù)了市場90%以上份額。而最高級的EUV（極紫外光）技術(shù)，則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:454287 
ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺EUV光刻機(jī)的售價(jià)為1.48億歐元，折合人民幣高達(dá)11.74億元
2020-10-19 12:02:4910752 
導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個(gè)芯片制造工藝中，幾乎每個(gè)工藝的實(shí)施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機(jī)的工作原理： 利用光刻機(jī)
2022-12-23 13:34:5410100 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:212202 作為半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，光刻機(jī)無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進(jìn)工藝的光刻機(jī)，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機(jī)他們還是獨(dú)一份。
2020-11-09 17:11:382783 ，不過ASML對這個(gè)機(jī)器是不放行的，主要是美國強(qiáng)制要求。 EUV光刻機(jī)是光刻機(jī)在發(fā)展過程中的第五代產(chǎn)品，由于采用了極紫外線，它的最小工業(yè)節(jié)點(diǎn)到了 22nm-7nm，可以說是世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)備而這種設(shè)備，只有ASML能造出來。 2018年4月，中芯國際向
2020-11-10 10:08:043971 中國需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:305279 
。 目前，臺積電使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻機(jī)在其N7+以及N5節(jié)點(diǎn)上制造芯片，但在未來幾個(gè)季度
2020-11-17 16:03:382413 。 EUV光刻機(jī)參與的將是SK海力士的第四代（1a nm）內(nèi)存，在內(nèi)存業(yè)內(nèi)，目前的代際劃分是1x、1y、1z和1a。 EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。 當(dāng)然，EUV光刻機(jī)實(shí)在是香餑餑。唯一的制造商ASML（
2020-11-26 18:23:292303 想想幾年前的全球半導(dǎo)體芯片市場，真的可謂哀嚎一片，一時(shí)間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天，我們不僅看到5nm工藝如期而至，臺積電宣布2nm獲得重大進(jìn)展，就連光刻機(jī)的老大ASML也傳來捷報(bào)，全球最先進(jìn)的1nm EUV光刻機(jī)業(yè)已完成設(shè)計(jì)。
2020-12-02 16:55:4111034 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:227525 更多訣竅，領(lǐng)先對手1到2年。 據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。 盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過少對
2020-12-04 18:26:542674 根據(jù)韓國媒體《Etnews》報(bào)導(dǎo)指出，目前全球3大DRAM存儲(chǔ)器中尚未明確表示采用EUV極紫外光刻機(jī)的美商美光（Micron），因日前招聘網(wǎng)站開始征求EUV工程師，揭露美光也在進(jìn)行EUV運(yùn)用于DRAM先進(jìn)制程，準(zhǔn)備與韓國三星、SK海力士競爭
2020-12-25 14:33:101953 EUV（極紫外光）光刻機(jī)，是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來，有不少消息都指出，EUV光刻機(jī)耗電量非常大，甚至它還成為困擾臺積電的一大難題。 為何EUV光刻機(jī)會(huì)這么耗電呢
2021-02-14 14:05:004746 據(jù)etnews報(bào)道，SK海力士已開始在其位于韓國利川的M16工廠安裝EUV光刻機(jī)，以量產(chǎn)10nm 1a DRAM。 此前SK海力士宣布將在今年年內(nèi)在M16廠建設(shè)產(chǎn)線以生產(chǎn)下一代DRAM，不過并未透露
2021-01-20 18:19:202943 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:185443 在光刻機(jī)領(lǐng)域一家獨(dú)大的荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進(jìn)工藝制程的芯片是沒戲的。 財(cái)報(bào)披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:165844 
ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào)，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機(jī)出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實(shí)際上EUV光刻機(jī)
2021-01-22 17:55:243621 提到要實(shí)現(xiàn)DRAM的規(guī)?；院芾щy。鑒于EUV技術(shù)帶來的性能優(yōu)化還無法抵消設(shè)備成本和生產(chǎn)困難，美光近期不打算引入EUV光刻技術(shù)，考慮在未來的1？？工藝中應(yīng)用EUV技術(shù)。 一、美光1α工藝位密度或提升40% 到目前為止，美光已經(jīng)將其DRAM生產(chǎn)的很大一部分轉(zhuǎn)移到其1Z制程，該制程為生產(chǎn)
2021-01-29 10:17:163024 
隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:552324 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)
2021-02-25 09:30:232709 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:092438 一提起ASML這家公司，就少不了對光刻機(jī)問題的討論，因?yàn)榻刂聊壳埃珹SML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說了，ASML每年都能賣出去很多臺，而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面，ASML更是占據(jù)了絕對壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4216218 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程，EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機(jī)，包含EUV光刻機(jī)嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中，光刻機(jī)是必不可少的精密設(shè)備，是集成電路芯片制造中最復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟。“我國EUV光刻機(jī)的自主研發(fā)還有很長的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機(jī)中最核心的‘卡脖子’難題?！碧苽飨檎f。
2021-03-10 15:45:513609 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3025244 日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:405766 美國媒體7月19日報(bào)道，美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)（極紫外光刻機(jī)）進(jìn)入中國大陸。 報(bào)道稱，中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國公司購買ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備（極紫外光刻機(jī)
2021-07-21 16:52:252514 光刻機(jī)設(shè)備（極紫外光刻機(jī)），中方希望將這款價(jià)值1.5億美元的機(jī)器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價(jià)1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品，稱為「極紫外光（EUV）微影系統(tǒng)」，是制造最先進(jìn)微處理器必需。英特爾、三星電子、臺積電等公司都使用EUV設(shè)備，生
2021-07-25 17:35:153479 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1012038 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:203215 
媒體稱三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚，再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造，而本來EUV光刻機(jī)就稀少，因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限，并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜，因
2022-06-07 14:18:041761 日前，在臺積電召開的會(huì)議上，有一名高管稱臺積電將于2024年引進(jìn)ASML正在研發(fā)的最新的High-NA EUV光刻機(jī)。 會(huì)議中，該高管稱：為了滿足客戶所需的相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施的開發(fā)等，臺積電將于2024年
2022-06-17 16:33:277596 據(jù)CNBC報(bào)道稱，世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:032334 在芯片研發(fā)的過程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:128591 中國芯的進(jìn)步那是有目共睹，我國在光刻機(jī)，特別是在EUV光刻機(jī)方面，更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3518612 隨著芯片制程工藝的更新迭代，芯片已進(jìn)入納米時(shí)代，指甲蓋大小的芯片上集成的晶體管數(shù)量高達(dá)百億。然而芯片制造最大的困難是光刻機(jī)。
2022-07-05 10:57:266569 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:156764 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:078348 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3852761 EUV光刻機(jī)是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:445306 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了。現(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253107 說到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒有光刻機(jī)的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:278556 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:067941 目前，光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進(jìn)工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1087068 光刻機(jī)的原理是接近或接觸光刻，通過無限接近，將圖案復(fù)制到掩模上。直寫光刻是將光束聚焦到一個(gè)點(diǎn)上，通過移動(dòng)工作臺或透鏡掃描實(shí)現(xiàn)任意圖形處理。投影光刻是集成電路的主流光刻技術(shù)，具有效率高、無損傷等優(yōu)點(diǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工
2022-07-10 15:28:1018347 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:405150 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機(jī)
2022-11-24 07:10:035174 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/ 周凱揚(yáng) ）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:021848 EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級，未來目標(biāo)在 2025 年推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)，德媒 ComputerBase 因此預(yù)測 3800E 有望支持 3~2
2024-03-14 08:42:341635 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4110788 
據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
2024-05-17 17:21:472030 據(jù)悉，新廠將采用EUV光刻機(jī)技術(shù)，并計(jì)劃在2025年量產(chǎn)的下一代1-gamma（nm）節(jié)點(diǎn)引入EUV光刻技術(shù)。鑒于DRAM行業(yè)的代際周期，新廠有望具備生產(chǎn)1-gamma甚至1-delta DRAM的能力。
2024-05-28 15:06:371352 ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達(dá)到
2025-01-07 10:02:304531 
本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456363 
了。 ? 芯片制造離不開光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí)，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對后3nm時(shí)代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:006314
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