，相比上一代產(chǎn)品，新款EUV光刻機(jī)生產(chǎn)效率將提升18%，曝光速度為30mj/cm，每小時(shí)可處理160片晶圓。 有意思的是，在2019年的年報(bào)中，ASML便提到正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)的計(jì)劃，不過(guò)并未透露具體型號(hào)，只是披露將在2022年初計(jì)劃出貨，2024年后大規(guī)模生產(chǎn)。而此次所公布的EUV光刻機(jī)如
2020-10-17 05:02:00
4299 對(duì)于如今的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機(jī)是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來(lái)的工藝軍備競(jìng)賽中保持優(yōu)勢(shì)，臺(tái)積電、三星和英特爾等廠(chǎng)商紛紛花重金購(gòu)置EUV光刻機(jī)。 ? 然而，當(dāng)這些來(lái)自
2022-07-22 07:49:003666 EUV 作為現(xiàn)在最先進(jìn)的光刻機(jī)，是唯一能夠生產(chǎn) 7nm 以下制程的設(shè)備，因?yàn)樗l(fā)射的光線(xiàn)波長(zhǎng)僅為現(xiàn)有設(shè)備的十五分之一，能夠蝕刻更加精細(xì)的半導(dǎo)體電路，所以 EUV 也被成為“突破摩爾定律的救星”。從
2018-05-17 09:22:2011583 他們正在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī)的，計(jì)劃在2022年年初開(kāi)始出貨，2024/2025年大規(guī)模生產(chǎn)。 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。根據(jù)
2020-03-18 09:16:393308 SK海力士于周三宣布與ASML簽訂了一項(xiàng)為期5年（截至2025年12月1日）的采購(gòu)合同，總值約為4.8萬(wàn)億韓元（43.4億美元），用于購(gòu)置EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:57:574815 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李彎彎）據(jù)外媒報(bào)道，SK海力士希望在中國(guó)工廠(chǎng)無(wú)錫使用EUV光刻機(jī)，提高存儲(chǔ)芯片的生產(chǎn)效率，然而該工廠(chǎng)升級(jí)改造計(jì)劃卻遇到極大阻礙，因?yàn)槊绹?guó)官員不允許SK海力士將ASML 的EUV
2021-11-24 09:28:345812 作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠(chǎng)中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4113656 盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠(chǎng)商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠(chǎng)商也就“聽(tīng)天由命”了。以?xún)纱髧?guó)外光刻機(jī)廠(chǎng)商尼康和佳能為例，他們就仍在
2022-11-24 01:57:007124 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:003525 ofweek電子工程網(wǎng)訊 國(guó)際半導(dǎo)體制造龍頭三星、臺(tái)積電先后宣布將于2018年量產(chǎn)7納米晶圓制造工藝。這一消息使得業(yè)界對(duì)半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵設(shè)備之一極紫外光刻機(jī)（EUV）的關(guān)注度大幅提升。此后又有媒體
2017-11-14 16:24:44
，光源是ArF（氟化氬）準(zhǔn)分子激光器，從45nm到10/7nm工藝都可以使用這種光刻機(jī)，但是到了7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)已經(jīng)的DUV光刻的極限，所以Intel、三星和臺(tái)積電都會(huì)在7nm這個(gè)節(jié)點(diǎn)引入極紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
！光刻機(jī)本身的原理，其實(shí)和相機(jī)非常相似，同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相機(jī)。相機(jī)的原理，是被攝物體被光線(xiàn)照射所反射的光線(xiàn)，透過(guò)相機(jī)的鏡頭，將影像投射并聚焦在相機(jī)的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38:07
如果國(guó)家以?xún)蓮椧?b class="flag-6" style="color: red">星的精神投入光刻機(jī)的研發(fā)制造，結(jié)果會(huì)怎樣？
2020-06-10 19:23:14
據(jù)羊城晚報(bào)報(bào)道，近日中芯國(guó)際從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī)，順利通過(guò)深圳出口加工區(qū)場(chǎng)站兩道閘口進(jìn)入廠(chǎng)區(qū)，中芯國(guó)際發(fā)表公告稱(chēng)該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī)，主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線(xiàn)擴(kuò)容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過(guò)將光線(xiàn)通過(guò)
2023-07-07 11:46:07
進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣(mài)出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過(guò)20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過(guò)1億歐元，可謂價(jià)值連城。
2017-01-19 18:22:594096 本文以光刻機(jī)為中心，主要介紹了光刻機(jī)的分類(lèi)、光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成、光刻機(jī)的性能指標(biāo)、光刻機(jī)的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01166595 
EUV光刻機(jī)的唯一供應(yīng)商ASML在2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展上也表示，250瓦的EUV光源也萬(wàn)事俱備。公司2017年財(cái)報(bào)中也強(qiáng)調(diào)，其EUV光刻機(jī)滿(mǎn)足了125WPH（每小時(shí)生產(chǎn)
2018-01-23 14:51:008666 
芯國(guó)際（SMIC）已經(jīng)向ASML公司訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，單價(jià)1.2億美元，預(yù)計(jì)在2019年初交付。
此前英特爾、三星、臺(tái)積電以及GF都向ASML下了EUV訂單，其中臺(tái)積電訂購(gòu)了大約10臺(tái)
2018-05-20 10:32:3714641 光刻機(jī)，是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)中最重要的設(shè)備之一，荷蘭ASML公司已經(jīng)成為全球光刻機(jī)市場(chǎng)的一哥，壟斷了高端光科技生產(chǎn)，在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域更是獨(dú)一份。
2018-07-19 16:52:003479 臺(tái)積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝，預(yù)計(jì)明年大規(guī)模量產(chǎn)，三星今天宣布量產(chǎn)7nm EUV工藝，這意味著EUV工藝就要正式商業(yè)化了，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML為這一天可是拼了20多年。
2018-10-19 10:49:293872 %。
而三星也宣布開(kāi)始進(jìn)行7nm LPP（Low Power Plus）工藝芯片的量產(chǎn)工作。三星的7nm LPP采用ASML的EUV光刻機(jī)，型號(hào)為雙工件臺(tái)NXE:3400B（光源功率280W），日產(chǎn)能
2018-10-22 15:18:343209 量產(chǎn)系統(tǒng)。預(yù)計(jì)2019年我們的EUV掃描儀生產(chǎn)的芯片將開(kāi)始供消費(fèi)者和企業(yè)使用。”
他們還指出，公司將在今年推出新一代的EUV光刻設(shè)備N(xiāo)XE：3400C，規(guī)格為每小時(shí)170片晶圓，可用
2019-01-27 10:33:555103 
由于三星去年就小規(guī)模投產(chǎn)了7nm EUV，同時(shí)ASML（荷蘭阿斯麥）將EUV光刻機(jī)的年出貨量從18臺(tái)提升到今年的預(yù)計(jì)30臺(tái)，顯然促使臺(tái)積電不得不加快腳步。
2019-04-30 17:30:038537 格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時(shí)候沒(méi)有使用EUV光刻機(jī)，那么光刻的步驟將會(huì)超過(guò)100步，這會(huì)讓人瘋狂。所以所EUV光刻機(jī)無(wú)疑是未來(lái)5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來(lái)圍繞EUV光刻機(jī)的爭(zhēng)奪戰(zhàn)將會(huì)變得異常激烈。因?yàn)檫@是決定這些廠(chǎng)商未來(lái)在先進(jìn)工藝市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1814886 
據(jù)韓媒報(bào)道稱(chēng)，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，與現(xiàn)有光刻機(jī)相比，二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡，通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度兩大光刻機(jī)核心指標(biāo)提升70%，達(dá)到業(yè)界對(duì)幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:397084 據(jù)中國(guó)證券報(bào)報(bào)道，3月6日下午從中芯國(guó)際獲悉，日前中芯國(guó)際深圳工廠(chǎng)從荷蘭進(jìn)口了一臺(tái)大型光刻機(jī)，但這是設(shè)備正常導(dǎo)入，用于產(chǎn)能擴(kuò)充，并非外界所稱(chēng)的EUV光刻機(jī)。
2020-03-07 10:55:145046 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。
2020-03-17 09:13:483419 在EUV光刻機(jī)方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī)，去年出貨26臺(tái)，創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。
2020-03-17 09:21:195447 近日，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）公司2019年的年報(bào)中披露了關(guān)于下一代EUV極紫光刻機(jī)的研發(fā)進(jìn)程，預(yù)計(jì)2022年年初開(kāi)始出貨，2024年實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。
2020-03-17 15:25:593906 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復(fù)雜的精密設(shè)備之一，其實(shí)光刻機(jī)除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機(jī)，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。目前，我國(guó)高端的光刻機(jī)，基本上是從荷蘭ASML進(jìn)口的。
2020-03-18 11:12:0247310 頂級(jí)光刻機(jī)有多難搞？ASML的光刻機(jī)，光一個(gè)零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機(jī)舉例，其內(nèi)部精密零件多達(dá)10萬(wàn)個(gè)，比汽車(chē)零件精細(xì)數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3912919 與此同時(shí)， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶(hù)提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶(hù)已經(jīng)使用EUV光刻機(jī)曝光了超過(guò)1100萬(wàn)個(gè)EUV晶圓，并交付了57個(gè)3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺(tái)是EUV生產(chǎn)平臺(tái)）。
2020-08-14 11:20:553039 
據(jù)悉，ASML是全球唯一能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠(chǎng)商，年產(chǎn)量為40余臺(tái)，臺(tái)積電方面希望獲得全數(shù)供應(yīng)。EUV光刻機(jī)的價(jià)格昂貴，每臺(tái)要價(jià)約1.3億美元，由于是EUV制程必需的關(guān)鍵設(shè)備，臺(tái)積電與三星電子的競(jìng)爭(zhēng)日益激烈。
2020-10-13 13:51:522542 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機(jī)作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說(shuō)一套最先進(jìn)的7納米EUV
2020-10-15 09:20:055352 光刻機(jī)，在整個(gè)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié)，是最最最核心的設(shè)備，技術(shù)難度極高。在全球光刻機(jī)市場(chǎng)，日本的尼康、佳能，和荷蘭的ASML，就占據(jù)了市場(chǎng)90%以上份額。而最高級(jí)的EUV（極紫外光）技術(shù)，則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:454287 
。媒體稱(chēng)，臺(tái)積電采購(gòu)的EUV光刻機(jī)已經(jīng)超過(guò)30臺(tái)，三星累計(jì)采購(gòu)的EUV光刻機(jī)不到20臺(tái)。 圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)，一直不缺話(huà)題。 比如，一臺(tái)EUV光刻機(jī)賣(mài)多少錢(qián)？誰(shuí)買(mǎi)走了這些EUV光刻機(jī)？大陸廠(chǎng)商還能買(mǎi)到光刻機(jī)嗎？為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪(fǎng)ASML總部？ 上面這
2020-10-19 12:02:4910752 
根據(jù)韓國(guó)媒體《BusinessKorea》的報(bào)道，日前三星電子副董事長(zhǎng)李在镕前往荷蘭拜訪(fǎng)光刻機(jī)大廠(chǎng)ASML，其目的就是希望ASML的高層能答應(yīng)提早交付三星已經(jīng)同意購(gòu)買(mǎi)的極紫外光光刻設(shè)備（EUV）。
2020-10-24 09:37:303414 作為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的重要設(shè)備，光刻機(jī)不可或缺，尤其是7nm以下先進(jìn)工藝生產(chǎn)離不開(kāi)的EUV光刻機(jī)，目前全球只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn)，而臺(tái)積電、三星、英特爾等晶圓生產(chǎn)大廠(chǎng)，都有迫切需求，因此這個(gè)市場(chǎng)
2020-10-27 11:30:142398 ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:212202 ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域幾乎是巨無(wú)霸的存在，而他們對(duì)于與中國(guó)企業(yè)合作也是非常歡迎，無(wú)奈一些關(guān)鍵細(xì)節(jié)上被美國(guó)卡死。 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)，特別是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)
2020-11-10 10:08:043971 中國(guó)需要光刻機(jī)，尤其是支持先進(jìn)制程的高端光刻機(jī)。具體來(lái)說(shuō)，就是 EUV （極紫外光源）光刻機(jī)。
2020-11-11 10:13:305279 
訂購(gòu)了至少13臺(tái)ASML的Twinscan NXE EUV光刻機(jī)，將會(huì)在2021年全年交付，不過(guò)具體的交付和安裝時(shí)間表尚不清楚。 同時(shí)，明年臺(tái)積電實(shí)際需求的數(shù)量可能是高達(dá)16到17臺(tái)EUV光刻機(jī)
2020-11-17 16:03:382413 目前，EUV光刻機(jī)的部署安裝主要在臺(tái)積電、三星的晶圓代工廠(chǎng)。不過(guò)，內(nèi)存廠(chǎng)商們也開(kāi)始著手上馬了。 此前，SK海力士規(guī)劃的是為年底建成的M16工廠(chǎng)配備，但來(lái)自德國(guó)CB的消息稱(chēng)，M14老廠(chǎng)也會(huì)引進(jìn)
2020-11-26 18:23:292303 目前，EUV光刻機(jī)的部署安裝主要在臺(tái)積電、三星的晶圓代工廠(chǎng)。不過(guò)，內(nèi)存廠(chǎng)商們也開(kāi)始著手上馬了。
2020-11-27 10:37:041610 而由其所研發(fā)生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)更是在高端市場(chǎng)之中處于一家獨(dú)大的位置。臺(tái)積電作為ASML的股東很輕松就能夠獲得ASML的EUV光刻機(jī)，所以這邊導(dǎo)致臺(tái)積電一直以來(lái)在技術(shù)上領(lǐng)先于三星。當(dāng)然能夠在5納米等工藝方面保持領(lǐng)先的地位，也是因?yàn)檫@個(gè)原因。
2020-12-01 12:03:152794 自從芯片工藝進(jìn)入到7nm工藝時(shí)代以后，需要用到一臺(tái)頂尖的EUV光刻機(jī)設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進(jìn)制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機(jī)，目前全球
2020-12-03 13:46:227524 更多訣竅，領(lǐng)先對(duì)手1到2年。 據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機(jī)的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。 盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過(guò)少對(duì)
2020-12-04 18:26:542674 繼SK海力士日前宣布在M14和建設(shè)中的M16工廠(chǎng)均引入EUV光刻機(jī)后，三星也坐不住了。
2020-12-05 09:14:061835 ？OFweek君根據(jù)公開(kāi)資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機(jī)相比，EUV光刻機(jī)的吞吐量相對(duì)較低，每小時(shí)可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片－175片之間，技術(shù)改進(jìn)后，速度可以提升至275片每小時(shí)。但相對(duì)而言，EUV生產(chǎn)效率還是更高，
2021-02-14 14:05:004746 據(jù)etnews報(bào)道，SK海力士已開(kāi)始在其位于韓國(guó)利川的M16工廠(chǎng)安裝EUV光刻機(jī)，以量產(chǎn)10nm 1a DRAM。 此前SK海力士宣布將在今年年內(nèi)在M16廠(chǎng)建設(shè)產(chǎn)線(xiàn)以生產(chǎn)下一代DRAM，不過(guò)并未透露
2021-01-20 18:19:202943 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，三星、臺(tái)積電都是ASML的客戶(hù)。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國(guó)大陸沒(méi)有從ASML買(mǎi)來(lái)一臺(tái)EUV光刻機(jī)。
2021-01-21 08:56:185443 在四季度財(cái)報(bào)會(huì)議上，荷蘭ASML（阿斯麥）表示，預(yù)計(jì)今年將出貨交付40臺(tái)EUV光刻機(jī)，比去年多9臺(tái)。 CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻機(jī)系統(tǒng)的銷(xiāo)售收入在58億歐元左右。四季度
2021-01-21 15:30:222694 %，凈利潤(rùn)達(dá)到36億歐元。全球光刻機(jī)主要玩家有ASML、尼康和佳能三家，他們占到了全球市場(chǎng)90%。 ASML由于技術(shù)領(lǐng)先，一家壟斷了第五代光刻機(jī)EUV光刻機(jī)，這類(lèi)光刻機(jī)用于制造7nm以下先進(jìn)制程的芯片。 2020年ASML對(duì)外銷(xiāo)售了31臺(tái)EUV光刻機(jī)，帶來(lái)了45億歐元（折合352.52億
2021-01-22 10:38:165843 
ASML公司前兩天發(fā)布了財(cái)報(bào)，全年凈銷(xiāo)售額140億歐元，EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái)，帶來(lái)了45億歐元的營(yíng)收，單價(jià)差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績(jī)?cè)鲩L(zhǎng)很亮眼，但是ASML也有隱憂(yōu)，實(shí)際上EUV光刻機(jī)
2021-01-22 17:55:243621 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠(chǎng)商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 09:28:552324 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠(chǎng)商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)
2021-02-25 09:30:232709 隨著半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)以下，EUV光刻機(jī)成為制高點(diǎn)，之前臺(tái)積電搶購(gòu)了全球多數(shù)的EUV光刻機(jī)，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠(chǎng)商也要入場(chǎng)了，SK海力士豪擲4.8萬(wàn)億韓元搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。
2021-02-25 11:39:092438 一提起ASML這家公司，就少不了對(duì)光刻機(jī)問(wèn)題的討論，因?yàn)榻刂聊壳埃珹SML仍然是全球最領(lǐng)先的光刻機(jī)廠(chǎng)商。普通的DUV光刻機(jī)就不多說(shuō)了，ASML每年都能賣(mài)出去很多臺(tái)，而在更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)方面，ASML更是占據(jù)了絕對(duì)壟斷的地位。
2021-02-27 09:59:4216218 放眼全球光刻機(jī)制造領(lǐng)域，荷蘭ASML是當(dāng)之無(wú)愧的第一巨頭。ASML一臺(tái)EUV光刻機(jī)賣(mài)價(jià)十多億，可即便如此臺(tái)積電和三星依舊會(huì)搶著購(gòu)買(mǎi)。
2021-03-02 15:09:085565 光刻機(jī)是我國(guó)芯片制造業(yè)一大痛點(diǎn)，目前，在EUV光刻機(jī)賽道中，僅有ASML一個(gè)玩家。
2021-03-02 15:29:1310214 三星一方面在積極向唯一的EUV光刻機(jī)廠(chǎng)商ASML爭(zhēng)取訂單，另外一方面也在增資為EUV產(chǎn)業(yè)鏈輸血。
2021-03-04 09:52:412409 中芯國(guó)際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進(jìn)一步提升至7nm乃至3nm等先進(jìn)制程，EUV光刻機(jī)設(shè)備就必不可少。那么，中芯國(guó)際此次12億美元的采購(gòu)協(xié)議都有哪些類(lèi)型的光刻機(jī)，包含EUV光刻機(jī)嗎？
2021-03-10 14:36:5511344 在芯片制造的產(chǎn)業(yè)鏈中，光刻機(jī)是必不可少的精密設(shè)備，是集成電路芯片制造中最復(fù)雜和關(guān)鍵的工藝步驟?！拔覈?guó)EUV光刻機(jī)的自主研發(fā)還有很長(zhǎng)的路要走，基于SSMB的EUV光源有望解決自主研發(fā)光刻機(jī)中最核心的‘卡脖子’難題?！碧苽飨檎f(shuō)。
2021-03-10 15:45:513609 5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機(jī)有何區(qū)別？ EUV光刻機(jī)產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽(tīng)友） 請(qǐng)問(wèn)謝博士，EUV光刻機(jī)的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進(jìn)的光刻機(jī)，滿(mǎn)負(fù)荷生產(chǎn)手機(jī)芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國(guó)際有多少臺(tái)投入生產(chǎn)的光刻機(jī)？是1臺(tái)、5臺(tái)還是10臺(tái)呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3025243 日前，ASML產(chǎn)品營(yíng)銷(xiāo)總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機(jī)的最新進(jìn)展。
2021-03-19 09:39:405766 的。臺(tái)積電、三星、Intel的7nm、5nm，以及未來(lái)的3nm、2nm都要依賴(lài)EUV光刻機(jī)，單臺(tái)售價(jià)超過(guò)1億美元，成本極高。 目前，ASML的EUV光刻機(jī)使用的還是第一代，EUV光源波長(zhǎng)在13.5nm
2021-06-26 16:55:281795 不會(huì)有我們現(xiàn)在的手機(jī)、電腦了。 光刻機(jī)是用于芯片制造的核心設(shè)備，按照用途可以分為用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)、用于封裝的光刻機(jī)和用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。 光刻機(jī)的核心原理就是一個(gè)透鏡組，在精度上首先咱們有個(gè)概念：我們現(xiàn)在芯片的
2021-07-07 14:31:18130297 美國(guó)媒體7月19日?qǐng)?bào)道，美國(guó)政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(jī)（極紫外光刻機(jī)）進(jìn)入中國(guó)大陸。 報(bào)道稱(chēng)，中國(guó)政府此前與荷蘭政府協(xié)商，要求允許中國(guó)公司購(gòu)買(mǎi)ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)設(shè)備（極紫外光刻機(jī)
2021-07-21 16:52:252514 光刻機(jī)設(shè)備（極紫外光刻機(jī)），中方希望將這款價(jià)值1.5億美元的機(jī)器用于大陸芯片制造。 這款180噸重、售價(jià)1.5億美元的設(shè)備是艾司摩爾招牌產(chǎn)品，稱(chēng)為「極紫外光（EUV）微影系統(tǒng)」，是制造最先進(jìn)微處理器必需。英特爾、三星電子、臺(tái)積電等公司都使用EUV設(shè)備，生
2021-07-25 17:35:153479 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）作為近乎壟斷的光刻機(jī)巨頭，ASML的EUV光刻機(jī)已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠(chǎng)中獲得了使用。無(wú)論是英特爾、臺(tái)積電還是三星，EUV光刻機(jī)的購(gòu)置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1012038 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī)，有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī)，還有用于封裝的光刻機(jī)。光刻機(jī)是采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，然后把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線(xiàn)的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0090746 臺(tái)積電和三星從7nm工藝節(jié)點(diǎn)就開(kāi)始應(yīng)用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導(dǎo)體制造過(guò)程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:203214 
媒體稱(chēng)三星的目的是為了搶到ASML的EUV光刻機(jī)。 目前芯片短缺的現(xiàn)狀大家也都清楚，再加上7nm制程以下的高端芯片只有EUV光刻機(jī)才能打造，而本來(lái)EUV光刻機(jī)就稀少，因此先進(jìn)芯片發(fā)展頻頻受限，并且前段時(shí)間三星才剛剛和Intel洽談完芯片合作的事宜，因
2022-06-07 14:18:041761 引進(jìn)ASML最先進(jìn)的High-NA EUV光刻機(jī)，并且推動(dòng)臺(tái)積電的創(chuàng)新能力。不過(guò)另一位高管補(bǔ)充道：臺(tái)積電并不打算在2024年將High-NA EUV光刻機(jī)投入到生產(chǎn)工作中去，將首先與合作伙伴進(jìn)行相關(guān)的研究。 據(jù)了解，High-NA EUV光刻機(jī)的High-NA代表的是高數(shù)值孔徑，相比于現(xiàn)在的光刻技術(shù)，
2022-06-17 16:33:277596 據(jù)CNBC報(bào)道稱(chēng)，世界聞名的先進(jìn)光刻機(jī)智造商荷蘭AMSL公司正在研發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)。
2022-06-18 08:13:032334 在芯片研發(fā)的過(guò)程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿(mǎn)足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺(tái)積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:128591 中國(guó)芯的進(jìn)步那是有目共睹，我國(guó)在光刻機(jī)，特別是在EUV光刻機(jī)方面，更是不斷尋求填補(bǔ)空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3518612 三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購(gòu)協(xié)議。
2022-07-05 15:26:156764 光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)。
2022-07-06 11:03:078348 如今世界最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，只有asml一家公司可以制造出來(lái)。
2022-07-06 11:19:3852761 在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，光刻機(jī)是最核心的設(shè)備，同時(shí)，也是研發(fā)難度最高的設(shè)備。
2022-07-07 09:38:238478 EUV光刻機(jī)是在2018年開(kāi)始出現(xiàn)，并在2019年開(kāi)始大量交付，而臺(tái)積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:445306 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機(jī)了?，F(xiàn)在，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML的EUV光刻機(jī)，那么euv光刻機(jī)目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4253101 說(shuō)到芯片，估計(jì)每個(gè)人都知道它是什么，但說(shuō)到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機(jī)是制造芯片的機(jī)器和設(shè)備。沒(méi)有光刻機(jī)的話(huà)，就無(wú)法生產(chǎn)芯片，因此每個(gè)人都知道光刻機(jī)對(duì)芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機(jī)
2022-07-10 11:42:278556 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強(qiáng)大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。 EUV光刻機(jī)有光源系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭、雙工作臺(tái)系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進(jìn)的光刻機(jī)是荷蘭ASML公司的EUV光刻機(jī)。預(yù)計(jì)在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:067938 光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是是什么呢？ duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產(chǎn)。 2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內(nèi)部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別了，現(xiàn)在基本都是euv光刻機(jī)
2022-07-10 14:53:1087066 euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī)，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1018347 光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢？下面我們就一起來(lái)看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制等
2022-07-10 16:34:405149 一臺(tái)EUV光刻機(jī)工作一天大概需要耗電3萬(wàn)度。如果關(guān)閉1臺(tái)EUV光刻機(jī)，一天就能省下3萬(wàn)度電。臺(tái)灣目前工業(yè)用電價(jià)格約為2.45新臺(tái)幣（約合人民幣0.55元），也就是說(shuō)一天能省個(gè)1.65萬(wàn)元人民幣的電費(fèi)。
2022-09-08 10:54:061780 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/周凱揚(yáng)）盡管ASML作為目前占據(jù)主導(dǎo)地位的光刻機(jī)廠(chǎng)商，憑借獨(dú)有的EUV光刻機(jī)一騎絕塵，主導(dǎo)著半數(shù)以上的市場(chǎng)份額，但這并不代表著其他光刻機(jī)廠(chǎng)商也就“聽(tīng)天由命”了。以?xún)纱髧?guó)外光刻機(jī)
2022-11-24 07:10:035174 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/ 周凱揚(yáng) ）到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:021848 EUV曝光是先進(jìn)制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時(shí)間、總成本的一半以上。由于這種光刻機(jī)極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺(tái)，而全球5家芯片制造商都依賴(lài)ASML的EUV光刻機(jī)，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺(tái)積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機(jī)被臺(tái)積電購(gòu)買(mǎi)。
2023-11-22 16:46:561198 3 月 13 日消息，光刻機(jī)制造商 ASML 宣布其首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 已完成安裝，新機(jī)型將帶來(lái)更高的生產(chǎn)效率。 ▲ ASML 在 X 平臺(tái)上的相關(guān)動(dòng)態(tài)
2024-03-14 08:42:341635 
光刻機(jī)經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)發(fā)展到浸沒(méi)步進(jìn)式投影光刻機(jī)和極紫外式光刻機(jī)。
2024-03-21 11:31:4110787 
據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露，臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下，英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)。
2024-05-17 17:21:472030 在全球四大先進(jìn)制程代工巨頭（包括臺(tái)積電、三星電子、英特爾以及Rapidus）中，只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。
2024-05-27 14:37:221245 納米級(jí)別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟，負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進(jìn)步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
本文主要介紹光刻機(jī)的分類(lèi)與原理。 ? 光刻機(jī)分類(lèi) 光刻機(jī)的分類(lèi)方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類(lèi)，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456363 
了。 ? 芯片制造離不開(kāi)光刻機(jī)，特別是在先進(jìn)制程上，EUV光刻機(jī)由來(lái)自荷蘭的ASML所壟斷。同時(shí)，盡管目前市面上，EUV光刻機(jī)客戶(hù)僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機(jī)依然供不應(yīng)求。 ? 針對(duì)后3nm時(shí)代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機(jī)
2022-06-29 08:32:006314
電子發(fā)燒友App
工商網(wǎng)監(jiān)
評(píng)論